本申请涉及显示装置。显示装置包括：衬底；像素限定膜，设置在衬底上并且包括形成在像素限定膜中的第一开口；第一有机发光二极管，包括设置在第一开口中的像素电极、发射层和相对电极；第一光阻挡层，设置在像素限定膜上并且包括形成在第一光阻挡层中的第...

本公开涉及像素和显示装置。所述像素包括：第一晶体管，包括连接至第一节点的栅极电极并且连接在第二节点和第三节点之间；第二晶体管，包括接收第一电力电压的栅极电极、接收第二电力电压的第一电极和连接至第三节点的第二电极；第三晶体管，包括接收栅极...

本公开涉及一种用于显示装置的支撑构件。用于显示装置的支撑构件包括第一支撑层和第二支撑层。第一支撑层包括第一区域、第二区域以及在第一区域和第二区域之间的第三区域。第二支撑层直接接触第一支撑层的第一表面。第二支撑层包括与第一支撑层的材料不同...

提供了一种有机发光二极管显示器和包括其的电子设备。有机发光二极管显示器包括：缓冲层，在基底上；薄膜晶体管，在缓冲层上，包括有源层和栅电极；像素，包括在基底上在下电极与上电极之间的多个发光层；薄膜封装层，在上电极上；像素限定层，在基底上，...

本公开涉及显示装置。显示装置包括：第一像素，包括其中定位有第一发光元件的第一发光区域；第二像素，在第二方向上与第一发光区域间隔开，并且包括其中定位有第二发光元件的第二发光区域；以及堤部，将第一发光区域和第二发光区域分隔开，其中，第一像素...

本公开涉及量子点、制备量子点的方法、发光装置、电子设备和电子装备。所述量子点包括：四元核，包括第一‑第一I族元素、第一‑第二III族元素和第一‑第三VI族元素并且不包括Se；以及三元壳，围绕所述四元核的至少一部分。

本申请涉及显示装置和用于制造显示装置的方法。显示装置包括：显示面板；光控制层，在显示面板上，并且包括彼此隔开的光转换层和光透射层；反射封盖层，在显示面板和光控制层之间；以及填充构件，在显示面板和反射封盖层之间，其中，反射封盖层的折射率小...

本发明的一实施例公开一种显示装置，所述显示装置包括：第一基板；多个像素，布置在所述第一基板上；第二基板，位于所述多个像素上；密封部，围绕所述多个像素，位于所述第一基板和所述第二基板之间；第一布线，从所述多个像素的外廓沿第一方向延伸；以及...

显示装置包括：基板；晶体管，位于所述基板之上；第一电极，与所述晶体管电连接；第一功能层，位于所述第一电极之上；发光层，位于所述第一功能层之上；第二功能层，位于所述发光层之上；第二电极，位于所述第二功能层之上；像素定义膜，位于所述第一电极...

提供了显示装置和包括显示装置的移动电子装置。根据一个或多个实施方式，显示装置可包括包含有显示区域和非显示区域的显示面板，在显示区域中定位有发光元件，非显示区域在平面图中位于显示区域外侧并且包括防渗区和防裂区，防渗区位于封装区域外侧，防裂...

一种显示面板包括：元件层，包括发光元件；以及电路层，包括：第一晶体管，连接在第一驱动电压线与发光元件之间并且根据第一节点的电位来操作；第二晶体管，连接在数据线与第二节点之间；第三晶体管，连接在第一晶体管与第一节点之间；第一电容器电极，连...

提供了显示装置和制造显示装置的方法。显示装置包括：在衬底的发射区域上的阳电极；在衬底的非发射区域上并且包括第一开口的像素限定层；在像素限定层上、包括第二开口并且包含导电材料的第一坝层；在第一坝层上并且包括遍及第一坝层的侧表面朝向第一开口...

本发明涉及显示设备。本发明构思的示例性实施例提供一种显示设备，包括：显示图像的显示区域；被布置在显示区域外部的外围区域；被布置在显示区域内的孔区域；孔裂缝检测线，该孔裂缝检测线被布置为与孔区域相邻以围绕孔区域并且具有第一端部和与第一端部...

本公开涉及发光装置、电子设备、电子装备和有机金属化合物。所述发光装置包括：第一电极；第二电极，面向第一电极；中间层，在所述第一电极和所述第二电极之间并且包括发射层；以及有机金属化合物，由式1表示。式1

显示装置包括：衬底，包括主区域和焊盘区域；缓冲层，在衬底的主区域上；第一电极，在缓冲层上；第一布线保护层，在衬底上，第一布线保护层与位于主区域和焊盘区域之间的弯曲区域重叠；信号线，在第一电极和第一布线保护层上；显示元件层，在信号线上，显...

一种显示装置包括：基板；发光器件，设置在基板上；第一层，设置在发光器件上；高折射率层，设置在第一层上并且与发光器件重叠；以及低折射率层，设置在第一层上并且具有比高折射率层的折射率低的折射率，其中，高折射率层的侧表面和低折射率层的侧表面彼...

根据本发明的一实施例的显示装置包括：显示面板，划分为发出光的发光区域以及与所述发光区域相邻的非发光区域，以及覆盖层，配置于所述显示面板上，所述覆盖层包括：第一部分，重叠于所述非发光区域并包括第一染料，以及第二部分，重叠于所述发光区域并包...

本公开涉及掩模清洁方法。所述掩模清洁方法包括：使用掩模清洁组合物清洁掩模的第一操作，其中，用于清洁沉积掩模的所述掩模清洁组合物包括具有7.35(MPa)<supgt;1/2</supgt;或更小的汉森溶解度参数距离R<...

提供了显示装置。显示装置包括显示面板、在显示面板上的覆盖窗和在覆盖窗上的光学膜，其中，光学膜包括基础层、在基础层上的硬涂层、在硬涂层上的低折射层以及在低折射层上的抗指纹层，并且光学膜具有35Hv或更大的硬度并且具有2％或更大的裂纹应变。

实施例提供了杂环化合物、发光装置、电子设备和电子装备。所述发光装置包括第一电极、面向所述第一电极的第二电极、在所述第一电极和所述第二电极之间并且包括发射层的中间层以及所述杂环化合物。所述杂环化合物由在说明书中说明的式1A或式1B表示：