三星SDI株式会社专利技术

三星SDI株式会社共有8396项专利

  • 本发明提供了用于固定生理物质的底物。该底物包括底物材料,在该底物材料上形成的首层和在该首层上形成的固定层。所述的首层能够增强所述底物与所述固定层之间的结合。通过简便的方法可以使用于固定生理物质的底物能够提供具有稳定、均匀和高密度的固定层。
  • 本发明提供一种托架及包括该托架的分析装置。托架包括样品座、样品接收器和样品升降器。样品座容纳样品并具有导向槽。样品座固定于样品接收器上,且与导向槽互锁的导轨形成于样品座中。样品升降器上下提升样品接收器并接受和卸下样品座。样品升降器包括驱...
  • 一种光学基甲醇传感器流动装置,包括:    内箱体,其环绕光学基甲醇传感器;    外箱体,其环绕该内箱体;    流道,其在该内箱体中,形成在该光学基甲醇传感器的全反射表面上;    燃料进口,其通过该内箱体和该外箱体形成,并且给该流...
  • 本发明公开了一种测量非水电解质电池润湿性的方法及装置,其中该方法包括步骤:将电极组件装入壳体,并且将电解质注入所述装有电极组件的壳体;在所述电解质注入步骤之后,经过预定的时间之后,浸渍所述电解质;在所述电解质注入步骤之后,通过将电容频谱...
  • 本发明提供了一种用于平板显示器的跌落测试的夹具框,所述夹具框被设计成使测试者有效地识别平板显示器是否被损坏并容易地调节其重量和变形程度。用于平板显示器的跌落测试的夹具框包括:基板,具有用于容纳平板显示器的凹槽;盖板,通过覆盖平板显示器来...
  • 一种坩埚加热装置和一种包括该坩埚加热装置的淀积装置。该坩埚加热装置包括:坩埚,其包括用于容纳淀积材料的主体和设置在所述主体并具有喷嘴的盖;带,其通过接触部分与所述坩埚相连;热电偶,其与所述带相连;壳体,其用于容纳所述坩埚和所述带;和加热...
  • 本发明提供一种形成基底催化剂的新方法,及利用该形成基底催化剂的方法合成碳纳米管的方法,该基底催化剂可以控制碳纳米管的生长密度并增加碳纳米管的均匀性。形成用于生长碳纳米管的基底催化剂的方法包括:将包含催化金属前体、固体和溶剂的前体糊涂布在...
  • 本发明提供了一种使用晶体结构制备纳米线的方法。在该制备纳米线的方法中,使用具有多个晶面的晶粒作为籽晶,在所述晶粒上沉积晶格常数差异在预定范围之内的晶体生长材料,由此允许从至少一个晶面上生长纳米线。所以,使用晶体生长原理通过简单的方法可以...
  • 本实施例涉及一种蚀刻剂和利用该蚀刻剂制造包括薄膜晶体管的电子装置的方法。该蚀刻剂包括氟离子(F↑[-])源、过氧化氢(H↓[2]O↓[2])、硫酸盐、磷酸盐、唑类化合物和溶剂。该蚀刻剂和包括薄膜晶体管的电子装置的制造方法可批量地蚀刻包括...
  • 一种沉积装置,包括真空腔和加热坩埚。其上将形成沉积膜的衬底安装在真空腔内。加热坩埚安装成与衬底相对以使有机化合物汽化。加热坩埚包括主体和内板。主体包括可容纳有机化合物的空间和通过其可排放汽化的有机化合物的喷嘴。内板安装在主体内,包括形成...
  • 本发明提供一种将基片直立为约垂直的状态下蒸镀有机物而形成有机薄膜的有机物蒸镀装置,以此不仅可以适用于大型基片,而且可以形成厚度均匀的有机薄膜。本发明所提供的有机物蒸镀装置,包含:室,用于形成壳体并使基片相对地面保持在70°至110°角度...
  • 一种有机物蒸镀装置,以将衬底大致垂直竖起的状态蒸镀有机物,形成有机薄膜,可适用于大型衬底,且可形成均匀厚度的有机薄膜。本发明的有机物蒸镀装置具有:腔,其构成壳体并且使衬底维持在相对于地面成70°~110°的角度;有机物存储部,其由接收向...
  • 本发明提供一种对向靶溅射装置和利用该装置的有机电致发光显示装置的制造方法,通过使用圆板型的对向靶来防止薄膜形成时所产生的具有高能量的粒子与基片碰撞而引起的膜损伤,并通过在所述圆板型对向靶的周围旋转多个基片形成薄膜而适于大量生产。本发明包...
  • 本发明提供一种蒸发源和具备该蒸发源的蒸镀装置,其能通过使用反射板来有效提高喷嘴的热量,从而防止蒸镀物质在喷嘴处凝缩。本发明的蒸发源包括:蒸镀物质贮藏部,其放置有蒸镀物质并且局部开口;喷嘴部,其具有连结在所述蒸镀物质贮藏部的开口的部分上并...
  • 本发明涉及串列形式的薄膜蒸镀系统,提供一种通过固定并支持基片而实现垂直蒸镀、并移送中使微细粒子的影响最小而可以充分确保掩模板平面度的校正系统、垂直型盘移送装置和具有该装置的蒸镀装置。本发明的解决手段为包含:垂直固定基片(10)的基片盘(...
  • 一种遮蔽掩模的附着方法,在使遮蔽掩模与垂直配置的掩模框邻接,并施加拉力的状态下,通过在掩模框上焊接而进行附着,预先反映向垂直方向的垂下,防止掩模附着后的图案的变形,可预先确认可否校正定位。该遮蔽掩模的附着方法包括:垂直配置掩模框的步骤;...
  • 一种具有稳定沉积速度和高重现性的沉积源,以及一种包括沉积源的沉积设备,其中该沉积源包括:具有线形开孔部分的加热室;和包括多个孔并与加热室线形开孔部分相连的盖。盖上形成的孔之间的距离沿加热室的线形开孔部分的长边方向变化。盖上形成的孔的数量...
  • 一种支撑加热坩埚的装置,包括支撑台和防污盘,支撑台的上表面形成有许多孔洞,防污盘分布于支撑台的各个孔洞入口处,并且具有相对于孔洞的开放部分以及沿孔洞内壁延伸的遮蔽部分。
  • 一种多真空蒸镀装置及其控制方法。真空蒸镀装置包括多个蒸发源、适合旋转该多个蒸发源的旋转部件和适合在任何时候遮挡所述多个蒸发源中除了一个以外的其它所有蒸发源的涂镀挡板,所述多个蒸发源中的每一个都包括一个壳体、一个设置在所述壳体内的坩锅、在...
  • 本发明提供了一种用于原位多晶薄膜生长的方法。催化剂增强化学气相沉积(CECVD)装置被用于使多晶硅薄膜生长。不需要后续的退火或脱氢工艺。该方法包括排尽室内气体以形成真空室,然后净化真空室并引入催化剂。然后在真空室内放置基底,并将反应气体...