本发明描述了在诸如感应炉等的容器内在金属表面(热的固体(炉料) 金属或熔融金属)上提供有效的惰性覆层的系统和相应的方法。所述系统 包括金属的容器和配置成朝所述金属输送双相惰性制冷剂的系统。所述输 送系统可包括设置在所述容器顶部的喷管。所...

本发明涉及一种加热一区域内的物料的方法，该区域借助于富氧燃烧器使燃料和氧化剂燃烧而被加热，所述富氧燃烧器包括布置在块内的喷射器，所述块限定腔室，该腔室具有限制指数Ｉｃｏｎｆ＝（Ｓ／Ｓ’）×（Ｌ／Ｌ’）×（１／（１＋α／１００））≥０．１...

本发明涉及一种低温制冷装置，该装置用于经由穿过闭合的工作回路（２００）流动的工作流体将热量从冷源（１５）传递到热源（１），所述工作回路（２００）按顺序排列包括下列部分，亦即：用于基本上等温压缩流体的部分；用于基本上等压冷却流体的部分；用...

形成含硅膜的方法，包括：在反应室中提供基底，向反应室注入至少一种含硅化合物；向反应室注入至少一种气态共反应物；以及使基底、含硅化合物和气态共反应物在等于或低于５５０℃的温度下发生反应以得到沉积在基底上的含硅膜。制备氮化硅膜的方法，包括：...

本发明涉及通过化学气相沉积（ＣＶＤ）或通过物理气相沉积（ＰＶＤ）向载体上沉积膜的方法，所述方法使用至少一种硼化合物。这种方法尤其可用于制造光生伏打太阳能电池。本发明还涉及硼化合物用于在ＣＶＤ或ＰＶＤ沉积方法中为材料赋予光和／或电性能的用...

一种用于加压容器的保护盖，该保护盖尤其用于保护安装在加压气体的气缸（３、４）上的气体压力调节装置（２），该保护盖包括安装在一起并与安装在容器（４）上的至少两个部件（５、６）以形成整流罩，至少两个部件（５、６；１５、１６）通过允许部件（５...

本发明涉及一种将冷却流体注入混凝土搅拌容器（５０２）的系统（１００），该系统（１００）包括：支承结构（１１６），所述支承结构包括具有两个或更多个支承支柱（２０１）的支柱组件和支承在所述两个或更多个支柱（２０１）之间的横构件梁（２００），...

在对包含氢(H2)和一氧化碳(CO)作为主要组分，还至少包含二氧化碳 (CO2)和水蒸气的气体混合物(6)分离的方法中，在分离前通过干燥步骤(2) 处理将要分离的所述气体混合物(6)。

本发明涉及一种用于从烃类混合物生产和处理合成气的单元，该单元包括至少一个蒸汽重整器，以及用于在重整器上游处理烃类混合物和／或在重整器下游处理合成气的功能元件，所述元件分布在长度为Ｌ的支架周围，一单元，其中重整器垂直于支架放置并位于支架的...

本发明涉及用于化学管理的方法和系统。在一个实施例中，掺混器联接到处理系统，并构造成向系统供应适当的溶液。然后，从系统中回收掺混器供应的溶液并在随后重新进入以供再利用。在将溶液重新引入系统以供再利用之前，掺混器可操作成控制溶液中各种组分的...

本发明涉及用于化学管理的方法和系统。在一个实施例中，掺混器联接到处理系统，并构造成向系统供应适当的溶液。然后，从系统中回收掺混器供应的溶液并在随后重新进入以供再利用。在将溶液重新引入系统以供再利用之前，掺混器可操作成控制溶液中各种组分的...

本发明涉及用于化学管理的方法和系统。在一个实施例中，掺混器联接到处理系统，并构造成向系统供应适当的溶液。然后，从系统中回收掺混器供应的溶液并在随后重新进入以供再利用。在将溶液重新引入系统以供再利用之前，掺混器可操作成控制溶液中各种组分的...

本发明涉及用于化学管理的方法和系统。在一个实施例中，掺混器联接到处理系统，并构造成向系统供应适当的溶液。然后，从系统中回收掺混器供应的溶液并在随后重新进入以供再利用。在将溶液重新引入系统以供再利用之前，掺混器可操作成控制溶液中各种组分的...

本发明涉及一种用于使绝热环形空间（１０８）基本干燥的设备。该设备包括绝热环绕封罩（１０６）、内部柱形装置（１０７）和部分环形筒（１００），该部分环形筒包括至少两个多孔区（１０１）。该设备将所述部分环形筒（１００）设置在绝热环形空间（１０...

本发明涉及一种使用助燃剂和至少一种主要惰性气体的燃料的燃烧方法，其中：喷射燃料和助燃剂以产生火焰；以两股射流的形式喷射主要惰性气体，使得：第一射流围绕由燃料和助燃剂产生的火焰，且所述第一射流相对于所述火焰呈现为发散的漩涡；第二射流围绕主...

本发明涉及一种喷射装置（３），该喷射装置用于固定在容纳有待冷却的散装产品的容器（１）的底部的壁上，所述喷射装置包括中空筒状体部，在该体部中插入受弹簧（１９）压迫的阀（１７）；和基本平行于所述阀的贯通的通道（１８），该贯通的通道用于被供给...

根据本发明使待处理的液体与气体混合物在塔中接触，两种流体同时穿过塔。

本发明涉及一种使用由喷管和／或燃烧器产生的火焰加热炉料的方法，其特征在于：在第一阶段，火焰朝向炉料，在第二阶段，火焰方向与炉料基本平行。

本发明涉及一种等离子体发生设备，其包括至少一个甚高频源（＞１００ＭＨｚ），所述甚高频源经由阻抗适配设备而被连接到附在电介质衬底上的细长导体；至少一个用于冷却所述导体的装置；以及至少一个气体供给，其位于所述电介质衬底的与支撑所述导体的一侧...

本发明涉及一种用于在大气压力下在衬底上进行ＣＶＤ的方法，其特征在于，所述方法受到甚高频等离子体的辅助，所述甚高频等离子体由使用微带线路型或中空导体线路型的细长导体的场施加器产生。本发明还涉及该方法的用途，用于在交通工具的车体部件（特别地...