本发明公开了一种步进纳米压印设备，包括支架和压印曝光模块，支架包括水平设置的底座和垂直设置的固定框架，压印曝光模块包括调平导向装置、紫外曝光灯和压印夹持装置，调平导向装置包括活动架和三个微分调平头，三个微分调平头固定在活动架上，且位于活...

本发明公开了一种面向半导体制造的喷墨型纳米压印胶，由功能齐聚物、功能单体、光引发剂和稀释剂组成；所述喷墨型纳米压印胶的粘度范围为5~50 cP；所述喷墨型纳米压印胶的表面能为25~45mN/m；所述喷墨型纳米压印胶的洁净度为220nm以...

本发明公开了一种高深宽比倾斜光栅的制备方法，原材料包括结构层、材料层和衬底材料，制备方法包括如下步骤：S1：利用纳米压印技术在压印结构层上制备倾斜光栅，同时形成纳米压印胶的残余层；S2：利用倾斜刻蚀技术对残余层进行去除，使得倾斜光栅贯穿...