一种用于硼化物的电弧蒸发的真空电弧源，包括：由至少90原子％的硼化物，特别是由大于98原子％的硼化物制成的阴极(1)；阳极(5)，其优选地为圆盘形状；主体(2)，其由与阴极(1)相比电弧放电不太优选的材料制成；主体(2)以这样的方式围绕...

一种用于物理气相沉积的靶，所述靶具有以下化学成分：‑以下化合物中的至少两种化合物的混合物：二硼化钽(TaB

一种用于物理气相沉积的靶，所述靶具有如下化学成分：‑以下化合物中的至少两种化合物的混合物：二硼化钛(TiB

本发明包括超级合金靶，其中该超级合金靶具有随机晶粒取向的多晶结构，该结构中的平均晶粒尺寸小于20μm，并且该结构中的孔隙率小于10％。此外，本发明包括通过粉末冶金生产制造超级合金靶的方法，其中所述粉末冶金生产从超级合金的合金粉末开始并且...

本发明涉及一种用于物理气相沉积方法的靶材，其具有由选自铝基材料、钛基材料和铬基材料及其全部组合的复合材料组成的基质，其中所述基质是用掺杂元素掺杂的，并且所述掺杂元素是作为陶瓷化合物或者铝合金的成分而嵌入所述基质中的，以及所述掺杂元素选自...

本发明涉及用于物理气相沉积的涂层源，其所具有的涂覆材料是由脆性材料所组成并且具有龟裂。涂层源额外具有支持组件，其在涂覆材料的表面接合到涂覆材料。此外，涂覆材料在涂覆材料的至少部分表面上具有结构化。本发明进一步涉及一种制造涂层源的方法。