【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】靶和用于制造靶的方法
本专利技术涉及一种具有权利要求1的前序部分的特征的用于物理气相沉积的靶(涂层源)和一种具有权利要求9的特征的用于制造靶的方法。
技术介绍
在现有技术中,物理气相沉积方法被大范围用于制造各种不同的层。由于这种层的应用范围广泛,必须能够沉积不同类型的涂层材料。在此,在物理气相沉积的情况下使用各种不同的技术,诸如蒸发、阴极雾化(溅射沉积(sputterdeposition))或电弧蒸发(阴极电弧沉积(cathodicarcdeposition)或电弧源(Arc-Source)蒸发技术)。靶适合于在PVD(physicalvapordeposition,物理气相沉积)工艺中使用以将层沉积到为此所设置的衬底材料上。在本专利技术的上下文中,术语靶应理解为溅射靶或电弧阴极。视材料而定,这些靶通过不同的技术来制造。在此,原则上可以在粉末冶金与熔融冶金工艺之间进行区分。在粉末冶金技术的情况下,存在多种不同的可能性,这些可能性必须根据靶的成分在考虑合成元素的特性的情况下来选择。示例性地,这里可列举压制、烧结、热等静压(HIP)、锻造、轧制、热压(HP)或火花等离子烧结(SPS)以及也包括它们彼此间的组合。通用靶和方法在WO2008/96648A1、JP05195199、JP55128560和WO2011/137472A1中予以描述。尤其是,JP55128560描述了对具有至少两种不同的二硼化物的烧结体的制造,其中强制使用硼化物形式的如镍、铁和钴那样的金属作为粘合剂和烧结助剂, ...
【技术保护点】
1.一种用于物理气相沉积的靶,所述靶具有如下化学成分:/n-以下化合物中的至少两种化合物的混合物:二硼化钛(TiB
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180420 AT GM50075/20181.一种用于物理气相沉积的靶,所述靶具有如下化学成分:
-以下化合物中的至少两种化合物的混合物:二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2),所述至少两种化合物为95mol%至100mol%
-0.01mol%至5mol%的碳(C)
-二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)以外的小于0.01mol%的硼化物,
其中关于金属纯度方面,二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)的混合物以及碳(C)的总和至少为99.8mol%,而且具有如下物理特性:
-密度大于上文所限定的化学成分的理论密度的90%、优选地大于上文所限定的化学成分的理论密度的95%
-二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)的混合物的晶粒的平均粒度小于10微米、优选地小于3微米。
2.根据权利要求1所述的靶,其中在二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)的混合物中钛(Ti)与钒(V)的分子比例在1:99至99:1的范围内,优选地在10:90至90:10的范围内。
3.根据上述权利要求中至少任一项所述的靶,其中所述碳(C)以石墨形式存在。
4.根据上述权利要求中至少任一项所述的靶,其中只有二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)以X射线可标识的相为形式存在。
5.根据上述权利要求中至少任一项所述的靶,其中二硼化钛(TiB2)和/或二硼化钒(VB2)和/或二硼化钛(TiB2)与二硼化钒(VB2)的混合相((Ti,V)B2)均匀分布地存在于所述靶中,使得在选择大小分别为至少1mm2的至少五个方形或圆形的不同的测量区域的情况下,在相应的测量区域的表面上确定的平均化学成分与从所有被选择的测量区域计算...
【专利技术属性】
技术研发人员:皮特·波尔契克,萨宾·沃勒,
申请(专利权)人:普兰西复合材料有限公司,
类型:发明
国别省市:德国;DE
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