本发明公开一种基板处理装置。该基板处理装置，包括：外壳，其用于定义处理空间；下电极单元，其用于支撑基板；上电极单元，其布置成与下电极单元相隔开且中间放置有基板；供气单元，其用于提供工艺气体，该工艺气体用于等离子体处理基板的边缘区域；以及...

本发明公开一种基板处理装置。该基板处理装置包括：外壳；卡盘，其用于支撑基板；介电板，其与卡盘相隔布置且中间放置有基板；供气单元，其用于提供工艺气体，该工艺气体用于等离子体处理基板边缘区域；保护罩，其覆盖介电板的整个底面且用于保护介电板免...