品维斯有限公司专利技术

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  • 本发明提供一种形成于陶瓷或金属基材表面来减少等离子体蚀刻的双层涂膜结构物及其制造方法。本发明提供一种耐等离子体双层涂膜结构物,其包括:陶瓷或金属基材,表面具有凹坑(pit);第一涂层,其是通过除熔射(thermal spray)以外的喷...
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