攀时奥地利公司专利技术

攀时奥地利公司共有21项专利

  • 管靶
    用于阴极溅镀设备的标靶(1a至1d),具有来自一溅镀材料的管状标靶主体(2a至2d);以及至少一连接件(6a至6d),其连接至该标靶主体(2a至2d)并自该标靶主体突出,用以将该标靶主体(2a至2d)连接至一阴极溅镀设备,其中该标靶主体...
  • 用于管靶的连接件
    本发明涉及一种用于管状标靶的连接件,该连接件具有一圆柱形内侧面和一圆柱形外侧面以及至少一磁性插件,其中该磁性插件的位置能够沿着该连接件的轴线方向在该连接件的至少一内侧面或外侧面上改变。
  • X射线阳极
    本发明涉及一种用于产生X射线的X射线阳极,其具有承载基体(13)和一个第一放射层(14)和至少一个第二放射层(15),其在电子碰撞时产生X射线,其中这些放射层在承载基体的一个面上通过中间层(16)分开并在X射线阳极的中央方向(17)上间...
  • 离子注入机
    本发明描述一种离子注入机,离子注入机包含至少一个由群组W、W合金、Mo和Mo合金的难熔金属构成的组件。组件的表面至少区域性地具有涂层,涂层至少区域性地由至少一种化合物形成,化合物具有选自C、B及N组成的群组的至少一种元素和选自W及Mo组...
  • 金属氧化物薄膜,沉积金属氧化物薄膜的方法及包含金属氧化物薄膜的装置
    本发明涉及一种包含β‑MoO3的金属氧化物薄膜,该β‑MoO3包含组Re、Mn及Ru中的至少一种掺杂元素。此外,本发明涉及一种经由溅射镀制造该种金属氧化物薄膜的方法;及一种包括金属氧化物薄膜的薄膜装置,该金属氧化物薄膜包含β‑MoO3,...
  • 本发明涉及一种用于制造层或由层构成的主体的方法,其中具有>10巴的压力的工艺气体在渐缩‑渐扩喷嘴中被加速,并且由颗粒形成且由Mo、W、Mo基合金或W基合金组成的涂覆材料被注入到所述工艺气体中。所述颗粒至少部分地以聚集体和/或附聚物...
  • 本发明涉及一种用于薄膜部件的金属镀层以及用于制造金属镀层的方法。本发明此外涉及一种含Al以及Ti和常见杂质的由Mo基合金组成的溅镀靶以及一种用于制造由Mo基合金组成的溅镀靶的方法。
  • 用于加热单元的支撑系统
    本发明涉及一种用于支撑加热单元的支撑系统,其包括支撑构件及基底构件。该支撑构件具有实质上沿高度方向延伸的主要延伸方向以及近位端及远位端,其中近位端适用于支撑加热单元。基底构件经由至少一个铰链被连接至支撑构件的远位端部分,远位端部分被配置...
  • 本发明涉及一种由Mo合金构成的溅镀靶,该溅镀靶包含周期表的第5族中的至少一种金属,其中第5族金属的平均含量为5at%至15at%并且Mo含量为≥80at%。该溅镀靶的平均C/O比以(at%/at%)为单位为≥1。根据本发明的溅镀靶能够通...
  • 本发明涉及一种由耐火金属或耐火金属含量>50at%的耐火金属合金制造组件的方法,该方法包含提供由粒子形成的粉末及在激光束或电子束作用下固化该粉末的步骤,该粉末的粒度d50如激光光学测量>10μm且平均表面积如通过BET方法测...
  • 本发明涉及一种具有至少90重量%的铬含量的金属粉末,其特征为,根据EN ISO 14577‑1的奈米硬度≤4GPa,和/或特征为,在550MPa的压缩压强下根据ASTM B312‑09测量的生坯强度为至少7MPa。
  • 本发明涉及到一种具有至少80重量%铬含量的粉末冶金部件,其中孔隙和/或氧化物夹杂物存在于该部件中,其中在至少一个区域中贯穿该部件的切割表面处孔隙及氧化物夹杂物总和的每单位面积数目为至少10000/mm2。
  • 本发明涉及一种铬含量>80重量%的粉末或粉末颗粒,其含有2重量%至20重量%的铁、可选最多5重量%的掺杂剂和可选最多2重量%的氧,其中该含铬的粒子至少部分地具有孔。根据本发明的粉末表现出明显改良的压缩性能并且可以生产合金组分的非常...
  • 用于加热单元的支撑系统
    本发明关于一种用于支撑加热单元(450)的支撑系统(100,201,301,400,401),支撑系统包括支撑构件(111,211,311)及弹力系统。支撑构件具有实质上沿高度方向延伸的主延伸方向以及近位端(113,213,313)和远...
  • 含铬的涂布材料
    本发明涉及一种包含富含Cr的区域的涂布材料,所述区域的Cr含量>95质量%,其形成含Cr粒子。所述粒子至少部分呈聚集物或聚结物形式,至少部分提供有孔,具有在所述富含Cr的区域中≤4gpa的平均纳米硬度HIT 0.005/5/1/5...
  • 本发明是关于制造W‑Ni溅镀靶的方法以及其用途。本发明同样是关于含有45重量%至75重量%的W、余量Ni及一般杂质的溅镀靶,其含有Ni(W)相、W相且不含或含有小于10%金属间相。
  • 本发明系关于一种触控传感器装置,其具有一个光学透明的电绝缘基板、配置于该基板上的至少一个光学透明的导电传感器元件及用于电接触该光学透明的传感器元件的至少一个接触结构。该接触结构具有由包括组成成分MoaXbOcNd的金属氮氧化物制成的至少...
  • 本发明涉及含有Ga和Cu的溅射靶材,其具有30至68At%的Ga含量,其中,该溅射靶材作为含有Ga和Cu的金属间相仅含有CuGa2或者CuGa2的体积比大于Cu9Ga4的体积比。在有利的方式中,该溅射靶材通过火花等离子体烧结或者冷气喷涂...
  • 本发明涉及一种导电靶材,其包含主要一种锂化合物、优选磷酸锂,及碳,以及常见杂质。本发明还涉及一种制造导电靶材的方法及其用途。
  • 本发明涉及一种用于加热部件的固持装置,还涉及一种具有至少一个此类固持装置的加热器,其中该固持装置(2)由耐火金属或由以耐火金属作为基础的合金制成,该固持装置具有至少两个彼此垂直或至少大致垂直设置的固持部件(4、6、8),且一第一固持部件...