本发明涉及用于工件的涂层，其具有至少一个层，该至少一个层包含由ＡｌｘＣｒ１－ｘ表示的金属组分并包含由Ｏ１－ｙＺｙ表示的非金属组分，其中ｘ是符合０≤ｘ≤０．８４的原子比，Ｚ是选自Ｎ、Ｂ、Ｃ中的至少一种元素，０≤ｙ≤０．６５，优选ｙ≤０．５...

涂覆体系包括：至少一个Ａ型层，Ａ型层基本由（ＡｌｙＣｒ１－ｙ）Ｘ组成，其中Ｘ描绘由Ｎ、ＣＮ、ＢＮ、ＮＯ、ＣＮＯ、ＣＢＮ、ＢＮＯ和ＣＮＢＯ组成的群组中的一种，ｙ描述金属相部分的化学计量组成；和至少一个Ｂ型层，Ｂ型层基本由（ＡｌｕＣｒ１－ｕ...

本发明涉及一种应用靶的方法，该靶适于通过火花蒸发制备金属氧化物层和／或金属氮化物层的涂层工艺，其中该靶可在高于靶中所用金属的熔点的温度下运行，且其中该靶由其氧化物和／或氮化物是非导电性的金属制成。此外，本发明还涉及一种靶的应用，该靶用于...

当借助于阳极（９）与阴极（７）之间的真空等离子体放电处理工件或基底表面并由此由于这种处理固体（１９）在阳极表面（２１）上形成并沉积时，该固体的ＤＣ比阻抗高于阳极材料的ＤＣ比阻抗，至少部分阳极表面通过在那里建立屏蔽等离子体（２５）而屏蔽于...

为了改进光伏电池和相应变换器面板的大规模工业制造，在具有本征硅化合物的微晶层（２）的光伏电池中，掺杂硅材料的相邻层（３，１）中的至少一个被设计为非晶层。

一种真空镀层设备，具有：反应气体入口（１２）；至少一个具有平面的阴极（１１）的ＰＶＤ镀层源（８、２１）；带有多个基材（７）的基材载体（６），其中基材载体（６）二维地水平延展，该基材载体位于至少两个ＰＶＤ镀层源之间，多个基材（７）是切削刀...

本发明涉及镀膜设备的框架式真空室，该真空室包括一个用镶嵌板镶嵌的框架。镶嵌板与框架一起组成一个可产生真空的空间。该框架的蒙皮最好用一整块金属件切去大面积材料制成，由此形成镶嵌板的孔洞，其优点是，镶嵌板嵌入的地方没有焊缝。

本发明涉及一种操作电弧源的方法，其中在目标的表面点燃或操作火花放电，并且同时利用分配有直流电压ＤＶ的直流电流以及由周期性施加的电压信号所生成的脉冲电流来馈送该火花放电。在此，所述电弧源上的电压在几微秒的时间跨度上被提高，以及所述电压信号...

一种工件承载器（２）包括能够围绕驱动轴（４）进行旋转的旋转框架（３）和驱动部件（２２）。旋转框架（３）能够受到马达（６）的驱动，并且承载着多个围绕驱动轴（４）分布以便能够围绕保持器轴线进行旋转的工件保持器（１３）。在固定件上面安装在驱动...

在色轮制造过程的色环构造部分中，一种压敏粘合剂（ＰＳＡ）用于将多个楔形玻璃滤光片在第一侧面上附接到轮毂。然后，利用诸如环氧树脂等强粘性粘合剂将滤光片的第二侧面直接粘附到马达的回转表面，从而完成色轮制造。根据需要对环氧树脂进行固化。压敏粘...

用于工件的安装在圆盘传送带（１９）上的行星齿轮架（２２）被设置在真空室内。用于包括离子（ＣＬ）的云的源（２４）被设置使得该云的中心轴线（ＡＣＬ）与圆盘式传送带（１９）的转动轴线（Ａ２０）相交。该云（ＣＬ）在行星轴线（Ａ２２）的移动路径（...

本发明涉及通过ＰＶＤ（物理气相沉积）、特别是通过阴极弧蒸发制造氧化层的方法，其中粉末台金靶被蒸发，且所述粉末冶金靶由至少两种金属或半金属组分形成，选择与所述靶相应的金属或半金属组分的化学组成从而使得在从室温到液相转变的加热过程中，基于所...

本发明涉及一种制造由金属和半金属组分的三元和更高价氧化物构成的层的方法，其中这些氧化物的形成温度基本上通过二元（或更高阶）合金靶的组成（基于相图）确定。

在所有情况下在围绕圆盘（７）的环（５）上支撑有沿中心轴布置并具有保持器（８）的多个圆盘（７），所述保持器（８）均匀地分布在圆周上方、斜地向外倾斜并用于工件。连续的环（５）形成防止圆盘（７）不期望涂层的大致圆柱形的包层。该包层具有用于圆盘...

一种远程等离子体源，包括平行布置并彼此电ＤＣ隔离的第一板状电极（７ｓ）和第二板状电极（７ｂ）。两个电极（７ｓ，７ｂ）可操作地连接至Ｒｆ发生器（１１）。第一电极（７ｓ）具有自由地暴露于基板支持器（３）的表面，并具有沿其表面范围分布的通孔（...

一种等离子体处理设备（３０、５０），包括具有室壁（３５）的工艺室、气体进入装置和气体分布装置、排气装置、以及用于衬底（３３）的衬底支架（３４）。导电平板（５１）被设置在所述室内，可与面对所述导电平板（５１）的ＲＦ电源（３９）电连接，所述...

一种用于从工件上脱除层体系的物质混合物，其由含水的碱性溶液组成，其含３－８重量％的ＫＭｎＯ４和同时碱含量为６－１５重量％。在一个实施方案中，该碱含量由ＫＯＨ或ＮａＯＨ形成，其中该溶液的ｐＨ－值大于１３。本发明的方法利用上述物质混合物对下...

氢渗透阻挡物的制备方法，包括以下步骤ａ）在基体（ＳＵＢ）上沉积包括至少一个层（Ｌ１；Ｌ２；Ｌ３）的层系统（ＬＳ）；其特征在于步骤ａ）包括以下步骤：ｂ）沉积至少一个包括至少三元氧化物的氢阻挡层（ＨＰＢＬ）。该装置包括可密封的容积和形成限定...