本发明提供了一种磁控管系统，该磁控管系统包括基板组件。基板组件限定壳体部分和电力馈通。溅射靶被布置在基板组件的壳体部分内。电磁组件被布置在基板组件的壳体部分内。电磁组件包括多个电磁体对和多个磁体对，其中，所述多个电磁体对和所述多个磁体对...

本发明提供一种磁控管系统，该磁控管系统包括基板组件，该基板组件限定壳体部分和电力馈通。磁体组件和分段靶组件被布置在壳体部分内。分段靶组件具有内部靶段，该内部靶段具有多个靶砖。多个电接触件与电力馈通电气连通，其中，所述多个电接触件中的各电...

本发明提供一种用于将超薄薄膜沉积到晶片上的方法。该方法包括以下步骤。提供溅射室，其中，该溅射室由晶片处理设备和磁控管共同限定。晶片被放置到晶片处理设备的晶片卡盘上。将该晶片卡盘移动至与磁控管相距第一距离处。将气体引入到溅射室中，使得气体...

公开了具有夹具装置的喷洒测量系统的各种实施例，其允许测量一个或多个喷嘴的喷洒输出，并确定喷嘴的喷洒分布型式。

本文描述可调整流量喷嘴系统的各个实施例，所述可调整流量喷嘴系统具有歧管，所述歧管具有多个可调整流量喷嘴，在所述可调整流量喷嘴中，可以个别地调整每一可调整流量喷嘴的流动速率。