本发明涉及轴承滚柱制造领域，目的是提供一种轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置及方法。一种轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置，包括真空室，位于真空室中的工件支承转台，交替置于工件支承转台外周的若干对铬靶和对数与铬靶的对数相同的若干对碳靶，偏压...

本实用新型涉及轴承滚柱制造领域，目的是提供一种轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置。一种轴承滚柱非平衡磁控溅射离子镀装置，包括真空室，位于真空室中的工件支承转台，交替置于工件支承转台外周的若干对铬靶和对数与铬靶的对数相同的若干对碳靶，偏压电...