霓达哈斯股份有限公司专利技术

霓达哈斯股份有限公司共有29项专利

  • 本发明提供一种研磨布,该研磨布具备无纺布和浸渍该无纺布的树脂作为形成材料,从厚度方向中央部到一个表面的上述形成材料的存在比例为30~60%,并且,上述厚度方向的上述存在比例的最大值与最小值之差为10%以下。
  • 本发明提供一种可进一步减少研磨后的晶片的微小缺陷和雾度的研磨用组合物。研磨用组合物包含二氧化硅粒子、碱性化合物、和聚甘油,且二氧化硅相对于聚甘油的质量比为0.9以下。碱性化合物也可为选自碱金属的氢氧化物、碱金属的盐、氨、胺、铵盐、和季铵...
  • 本发明提供一种维持研磨速度及表面平滑性,并且可获得良好的晶片形状的研磨用组合物。本发明的研磨用组合物包含磨粒、碱性化合物、及两种以上的水溶性高分子,磨粒与两种以上的水溶性高分子各自之间的重量%浓度比为磨粒∶水溶性高分子=1∶0.0001...
  • 本发明提供一种可进一步减少研磨后的晶片的微小缺陷和雾度的研磨用组合物。研磨用组合物包含二氧化硅粒子、无机碱性化合物、聚甘油、和多链型的聚氧化烯烷基醚。多链型的聚氧化烯烷基醚优选为选自聚氧化烯甲基葡萄糖苷、和聚氧化烯聚甘油醚中的至少一种。...
  • 本发明涉及研磨垫等,所述研磨垫具有由包含聚氨酯树脂和二氧化铈粒子的高分子体形成的垫主体,所述垫主体为构成研磨面的部分,所述二氧化铈粒子成为一次粒子和由多个一次粒子聚集而成的二次粒子而包含于所述高分子体中。
  • 本发明提供能够对蓝宝石玻璃等硬质材料实现较高的研磨量的三维研磨的研磨辊。能够绕中心轴回转的圆筒状的研磨辊的特征在于,包括被施加转矩的中心轴即芯部、具有以所述芯部为中心的同心圆的剖面的中间部、以及在所述中间部的外周面配置的研磨部,所述中间...
  • 本发明提供一种可实现表面缺陷的抑制和雾度的降低的研磨用组合物。研磨用组合物包含磨粒、选自具有1,2‑二醇结构单元的乙烯醇系树脂中的至少一种水溶性高分子、以及碱化合物,且利用动态光散射法所测定的研磨组合物中的粒子的平均粒径为55nm以下。...
  • 本发明提供一种可实现表面缺陷的抑制和雾度的降低的研磨用组合物。研磨用组合物包含磨粒、选自具有1,2‑二醇结构单元的乙烯醇系树脂中的至少一种水溶性高分子、多元醇、以及碱化合物。研磨用组合物优选进一步包含非离子性表面活性剂。
  • 本发明是一种研磨垫,其由发泡聚氨酯形成,通过25℃下的脉冲NMR测定求出的所述发泡聚氨酯中的S相的含有比例大于70%。
  • 半导体衬底的研磨方法
    本发明的半导体衬底的研磨方法,具有:中间研磨工序,进行研磨以使半导体衬底的表面中高度不足3nm的表面缺陷数成为全部表面缺陷数的45%以上;最后研磨工序,在所述中间研磨工序之后对所述半导体衬底进行精研磨。
  • 本发明的目的在于提供对印刷线路板进行抛光时,能充分抑制凹坑并将抛光面均匀地抛光,且能以高抛光速度进行抛光的抛光组合物及印刷线路板的制造方法。本发明的抛光组合物为对具有绝缘层和含铜导电层的印刷线路板进行抛光的抛光组合物,其包含磨粒、铜络合...
  • 研磨用组合物
    本发明的研磨用组合物含有羟乙基纤维素、水和磨粒,所述羟乙基纤维素的分子量为50万以上且150万以下,被磨粒吸附的羟乙基纤维素的比例为30%以上且90%以下。
  • 研磨用组合物及研磨方法
    本发明涉及研磨用组合物以及使用该研磨用组合物的研磨方法,该研磨用组合物含有水和二氧化硅,所述二氧化硅的BET比表面积为30m2/g以上、且NMR比表面积10m2/g以上。本发明的研磨用组合物通过采用二氧化硅的BET比表面积为上述范围且N...
  • 研磨用组合物
    本发明的研磨用组合物含有羟乙基纤维素、水和磨粒,所述羟乙基纤维素的分子量为50万以上且150万以下,所述羟乙基纤维素相对于所述磨粒的质量比为0.0075以上且0.025以下。
  • 本发明为含有羟乙基纤维素和水的半导体衬底用润湿剂,所述羟乙基纤维素的惯性半径为56nm以上且255nm以下,且接触角为10°以上且32°以下。
  • 本发明的研磨组合物,包含:聚乙烯醇系树脂,其为由下述一般式(1)所表示的单体和乙烯基酯系单体的共聚物,且侧链具有1,2-二醇结构;有机酸;磨粒,其表面进行了化学修饰,以使其在pH2.0以上的溶液中的表面的电动电位为负且不具有等电点,【化...
  • 本发明涉及一种能够实现稳定的研磨特性的研磨组合物用添加剂。研磨组合物用添加剂含有醇和1种或2种以上的胺化合物。该胺化合物含有季铵盐。特别是以高浓度含有胺化合物时,通过含有醇,能够抑制胺化合物的析出。
  • 本发明提供使研磨速度提高并使表面粗糙度降低的研磨组合物。本发明的研磨组合物包含:化合物,其在下述通式(1)所示的嵌段聚醚中至少包含氧乙烯基或氧丙烯基;碱性化合物;以及研磨剂,>N-R-N<…(1)其中,R表示由CnH2n表示...
  • 抛光组合物
    本发明的抛光组合物为抛光在绝缘层上形成的含钨金属层的抛光组合物,其包括磨粒、从由碘酸、亚碘酸和次碘酸组成的组中选择的一种以上的卤素酸、强酸、氢离子供给剂和水。
  • 在研磨垫中埋设有传感器、用以存储藉由传感器而获得的检测信息的存储器、及藉由电源部的驱动而与外部非接触地进行通信的通信器。包含上述结构的研磨垫、及可与设于研磨垫的通信器非接触地进行通信的通信部,用以构成研磨信息管理系统。进而,研磨装置具有...