本发明为化工喷涂技术领域提供一种光敏电阻涂层沉淀工艺，涂层生产工艺是利用沉淀法，将基板放在网格板上，沉淀好以后，将基板连同网板一起拿出，在沉淀溶器的底部开一小孔，基板沉淀上硫化镉后，打开容器底部的小孔，缓慢的将水引出，本发明还提供了一种...

本发明为光敏电阻技术领域提供一种新型光敏电阻及其制备方法，其主要特征是具有Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］陶瓷基座和Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］陶瓷基片，在Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］陶瓷基片上喷涂有ＣｄＳ和ＣｄＳｅ，形成光敏膜层，制成光敏电阻芯片；在Ａｌ↓...

本实用新型为化工喷涂技术领域提供了一种光敏电阻涂层沉淀装置，它的主要特点是支架上设置有沉淀池，沉淀池位于支架上部，四周设置有排水槽，底部设置有排水管道，与其下部循环水箱连通；沉淀地的侧面设置有喷淋泵，喷淋泵分别与药液杯和喷淋管连接，喷淋...