一种三氯氢硅提纯方法，将粗三氯氢硅投入进口３１６Ｌ的不锈钢制作的双塔连续精馏釜中进行回流５－７小时，除去总量８－１０％的低沸物，控制温度为３１．５－３２．５℃间，按１３－１７∶１回流比截留产品，保留１８－２１％的高沸物，并在三氯氢硅冷却...

本实用新型涉及一种新型区熔炉，它包括工作台、高真空机组、电气控制柜，所述的高真空机组由真空泵和扩散泵组成，配有高精度电磁阀和高真空测量仪以便于实现自动控制；所述的电气控制柜为立柜式结构，所有电表及操作机构均在柜体前侧，观察调节方便。本实...

一种灌装电子级三氯氢硅钢瓶清洗方法，它包括步骤，脱油：将初次使用的钢瓶装满丙酮，浸泡２４小时，将丙酮抽出钢瓶，用高纯水清洗数次后，使清洗后的水进行测定，电导率必须与高纯水相等；脱水：用酒精加入到钢瓶内进行置换数次，抽出酒精，用高纯氮气吹...

一种三氯氢硅提纯方法，将粗三氯氢硅投入进口３１６Ｌ的不锈钢制作的双塔连续精馏釜中进行回流５－７小时，除去总量８－１０％的低沸物，控制温度为３１．５－３２．５℃间，按１３－１７∶１回流比截留产品，保留１８－２１％的低沸物，并在三氯氢硅冷却...

本实用新型公开了一种三氯氢硅产品罐，它包括筒体１、封头２、１５、进液管６和出液管９，其中，所述进液管６和出液管９与法兰盖１０直接焊接，所述法兰盖１０与法兰５通过螺栓１６连接，所述法兰盖１０与法兰５连接处设有垫片１１，出液管９一端还设有出...

本实用新型是一种程序控制的锥面锗粒磨削的专用磨床，主要用于半导体材料圆柱形锗粒的锥面磨削，也适用于玻璃、陶瓷、宝石等硬度高、脆性大的材料的小直径圆柱体的锥面磨削。它由高速磨头、金刚石砂轮、冷却装置、双坐标直线导轨工作台、回转工作台、气动...

本发明是一种程序控制的锥面锗粒磨削的专用磨床，主要用于半导体材料圆柱形锗粒的锥面磨削，也适用于玻璃、陶瓷、宝石等硬度高、脆性大的材料的小直径圆柱体的锥面磨削。它由高速磨头、金刚石砂轮、冷却装置、双坐标直线导轨工作台、回转工作台、气动系统...