本发明涉及一种真空过渡室换样装置，包括，过渡室主体、磁流体密封机构、旋转机构、升降机构和转接法兰，所述过渡室主体上设置有连接窗口，所述转接法兰与连接窗口连接，所述过渡室主体内部设置有样品承载机构，所述样品承载机构包括旋转轴、轴承座和样品...

本发明涉及一种公转换靶的真空镀膜机靶台组件，包括，法兰基座、双磁流体、公转驱动机构、自转驱动机构、限位机构、多靶位靶台机构和靶台支撑杆，双磁流体包括磁流体外壳、公转轴和自转轴，多靶位靶台机构包括靶台固定座、公转靶轴管和自转靶轴，靶台固定...

本发明涉及一种真空设备用加热组件，包括，陶瓷基底辅助屏蔽组件，所述陶瓷基底辅助屏蔽组件包括高温合金底座和设置于所述高温合金底座下方的柱杆，所述柱杆上套设有高温合金鳍片，所述高温合金底座下方固定有隔热屏蔽外壳；所述隔热屏蔽外壳内部设置有加...