本发明公开一种沉积制备膜的方法及镀膜机，该方法包括：准备基体；在采用溅射离子源在所述基体表面溅射沉积金属膜的过程中，采用辅助离子源轰击所述金属膜，以增强所述金属膜原子的表面迁移率，提高所述金属膜的致密性。本发明提供的方法和镀膜机解决了在...