本发明属于等离子除臭技术领域，尤其公开了气相等离子一体扰流除臭设备，包括：气液绕流腔，气液绕流腔内置喷淋组件，用于喷淋待除臭处理的气相，所述喷淋组件包括：喷洒管，所述喷洒管数量设置为多个，多个喷洒管表面均安装有喷头，用于向气液绕流腔喷洒...