本技术公开了一种高能离子磁控阴极装置，属于磁控溅射装置技术领域，阴极装置装配于真空腔体中，包括阴极外壳、磁体、靶材和阴极组件，所述阴极组件存在开口，所述靶材置于阴极外壳开口处，所述磁体设置在阴极外壳内，所述阴极组件设于阴极外壳且用于与电...

本技术公开了一种复合多元磁场电弧阴极装置，装配于真空腔体，且所述真空腔体还设有配合所述阴极装置使用的引弧装置，以形成回路，所述阴极装置包括防护罩和法兰座，所述防护罩与法兰座之间设有固定板件，通过所述固定板件将所述防护罩与法兰座之间分隔成...

本技术公开了一种磁控溅射装置，该装置包括：支架，所述支架的上部设置有真空罩，所述真空罩的一侧设置有通孔；驱动机构，所述驱动机构设置在支架的上部，且驱动机构位于所述真空罩内；抽真空机构，所述抽真空机构设置在真空罩的一侧，且抽真空机构通过所...