本申请涉及一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图案。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩...

提供了一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图形。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版...

提供了一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图形。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版...

本发明提供用于分类样品上的缺陷的计算机实现的方法和系统。还提供各种用于分类样品上的缺陷的计算机实现的方法。一种方法包括基于在样品上检测到的各个缺陷的一种或更多种特性，将各个缺陷指派到缺陷组。所述方法还包括向用户显示关于所述缺陷组的信息。...

在实施方案中描述了用于在受扰环境中进行干涉测量的技术。受扰环境（１０６）可以包括一种或更多种变化，例如压强变化和／或温度变化。在一个实施方案中，检测第一光束（１０８）的光程和第二光束（１１０）的光程之间的差。第一或第二光束中的一束或更多...

在一个实施方案中，一种动态参考平面补偿的方法包括将来自第一辐射源的辐射照射到物体（２３０）的表面（２３２）上，根据从所述表面（２３２）上的第一位置反射的辐射，以及从第二位置反射的辐射生成未补偿测量信号；根据从所述表面（２３２）上的第三位...

提供了各种用于分类样品上的缺陷的计算机实现的方法。一种方法包括基于在所述样品上检测到的各个缺陷的一种或更多种特性，将所述各个缺陷指派到缺陷组。所述方法还包括向用户显示关于所述缺陷组的信息。此外，所述方法包括允许所述用户向所述缺陷组中的每...

为了使用多样性采样，用户可以在本文描述的方法中选择多样性采样，并且可能选择要使用的多样性采样参数。一个提供这种能力的可能的界面是图示一用户界面的一个实施例的屏幕截图，所述用户界面可以被用来选择在本文描述的计算机实现的方法的实施方案中使用...

提供了一种使用设计者意图数据检查晶片和掩模版的方法和系统。一种计算机实现的方法包括基于检查掩模版所产生的检查数据，标识晶片上的干扰缺陷，在检查所述晶片之前，使用所述掩模版在所述晶片上形成图形。另一种计算机实现的方法包括通过结合代表掩模版...

提供了各种计算机实现的方法。一种生成用于仿真程序的输入的计算机实现的方法包括将关于在已部分制造的掩模版上检测到的缺陷的信息与关于指派给所述掩模版邻近所述缺陷的区域的相位的信息相组合。所述相位要在与所述缺陷在其上被形成的层次不同的层次上被...

在一个实施方案中，检测晶片（１２２）边缘区域的系统（１１０），包括表面分析器组件，所述表面分析器组件包括将辐射束瞄准到晶片（１２２）表面的辐射瞄准组件；收集从所述晶片（１２２）表面反射的辐射的反射辐射收集组件；相对于所述晶片（１２２）的...

提供了带锯齿的傅立叶滤波器和检查系统。一种傅立叶滤波器包括一个或更多个被配置来阻挡来自晶片的部分光的阻挡单元。所述傅立叶滤波器还包括形成在所述一个或更多个阻挡单元的边缘的周期性锯齿。所述周期性锯齿限定所述一个或更多个阻挡单元的过渡区段。...