等离子体处理设备包括等离子体室、第一电极、第二电极与等离子体容器设备。等离子体容器设备具有多个槽并且电连接到第一电极。容器设备用于将等离子体限制在中间电极空间内，并且有利于最大程度的处理气体流动。当在中间电极空间内通过将电场应用于处理气...

本发明揭示一种用于一等离子处理机的卡盘，其包括一温控基座（３０２）、一热绝缘体（３０４）、一平支架（３０６）以及一加热器（３０８）。该温控基座（３０２）的温度低于一工件（３１０）的需要温度。热绝缘体（３０４）装设于温控基座（３０２）之上...

公开了一种用于控制工件支架表面上空间温度分布的方法与装置。本发明揭示一种用于一等离子处理机的卡盘，其包括一温控基座（３０２）、一热绝缘体（３０４）、一平支架（３０６）以及一加热器（３０８）。该温控基座（３０２）的温度低于一工件（３１０）...

一种密封装置，用于将一放电密封于等离子体处理装置的交互空间中，该等离子体处理装置包括一环堆叠和至少一个导电部件。这些环相互之间有间隔以在它们之间形成槽，且设置为环绕该交互作用空间。至少有一个导电部件电耦接每个环。该导电部件至少在该环外圆...

一种用于控制施加于一屏蔽的电压的装置，其中该屏蔽置于通过一匹配网络由电源提供动力的感应线圈与所发生的该等离子体之间，该装置包括屏蔽、第一反馈电路以及第二反馈电路。该电源为该屏蔽提供动力。该第一反馈电路与该感应线圈相连用来控制该电源。该第...

等离子体处理设备包括等离子体室、第一电极、第二电极与等离子体容器设备。等离子体容器设备具有多个槽并且电连接到第一电极。容器设备用于将等离子体限制在中间电极空间内，并且有利于最大程度的处理气体流动。当在中间电极空间内通过将电场应用于处理气...

一种用于使半导体晶片抛光的系统和方法包括：可变部分片－晶片重叠抛光机，其具有减少的表面面积；固定研磨抛光片；以及抛光机，其具有非研磨抛光片，用于与研磨浆料一起使用。该方法包括：首先使用可变部分片－晶片重叠抛光机和固定研磨抛光片来使晶片抛...