本描述涉及一种电子束设备(100)，该电子束设备包括：‑具有纵向方向(Z)的处理室(130)；‑至少一个电子束源(110)，每个源都适于在基本横向于纵向方向的束平面(PF)中发射电子束，以便在处理室中诱导等离子体或蒸发点，以用于处理部件...