本发明涉及半导体相关技术领域，公开了一种基于低漏率结构组件的半导体反应腔室，包括腔体本体、设置于腔体本体顶部的顶板以及可拆卸安装的腔盖，腔盖与腔体本体之间形成密封界面。腔盖一侧设置第一密封组件，腔体本体一侧设置能够相对第一密封组件发生位...

本发明涉及半导体生产腔室技术领域，且公开了一种半导体反应腔室，包括密封组件和反应组件，所述密封组件包括固定板一，所述固定板一的外壁贯穿有转杆一。该半导体反应腔室及其使用方法，通过设置的密封组件、固定板一、固定板二、内筒一、内筒二、内筒三...

本发明涉及半导体工艺设备技术领域，具体涉及一种基于ALD半导体设备的气体喷淋装置，包括盘架，盘架还包括进气腔室、转运腔室和出口板架，进气腔室内设有筒状支撑件，转运腔室内具有多个输气管道，所述筒状支撑件顶部固定安装有混匀件，混匀件内具有气...

本发明涉及半导体反应腔室相关技术领域，一种集成型半导体反应腔室，包括壳体，所述壳体的底部安装有底板，所述底板的底部安装有调节机构，且调节机构的顶部安装有托料盘，所述底板的顶部安装有转动机构，所述壳体的内壁安装有清洁机构；通过设置调节机构...