本申请公开了一种摇摆机构及电镀辅助装置，涉及电镀设备技术领域。其包括旋转驱动组件及摇摆组件，旋转驱动组件的输出轴连接有第一传递件，第一传递件连接有与其同步运动的第二传递件；摇摆组件包括滑动板，滑动板设有用于第二传递件插设的导向槽，滑动板...

本技术涉及一种载台装置及晶圆减薄机，载台装置包括基座及吸盘。基座形成有相互独立的第一气道及第二气道，基座的安装面上开设有与第一气道连通的第一气孔。通过第二气道对吸附孔抽真空，能够在吸盘的吸附面上形成负压以吸附工件；而通过第二气道对吸附孔...

本技术涉及一种晶圆减薄装置，包括第一搬运机构、对中机构、清洗机构、第二搬运机构、承载机构及磨削机构。第一搬运机构能够先从上料位将晶圆搬运至对中机构，并由对中机构进行对中；接着，第二搬运机构将对中机构上的晶圆搬运至承载机构，并由磨削机构对...

本技术涉及一种真空载具及加工装置。该真空载具包括：吸盘本体，具有第一侧面、与第一侧面相背的第二侧面以及贯穿第一侧面和第二侧面的多个第一气孔；及盖板，盖设在第一侧面，且具有朝向第一侧面的第三侧面和背离第三侧面的第四侧面，第三侧面与第一侧面...

本技术涉及冷却水管道技术领域，尤其涉及一种冷却水管道循环系统，一种冷却水管道循环系统，包括球阀，所述球阀的端侧安装有总管，所述总管的端侧安装有三通阀，所述三通阀的底部安置有连管，所述连管的端侧安装有管套，所述管套的内、外侧均安装有橡胶圈...

本技术公开了一种光刻机测试掩模版，涉及光刻机检修校准技术领域，其包括用于固定的边框，述边框内设置有图形区2，用于生成曝光后的图案。在边框上或者图形区的外边缘设置有四个对准标记集合3，对准标记集合用于测试掩模版与承掩模版台之间的对准。此外...

本发明涉及半导体制造设备改造技术领域，具体涉及一种多种材料衬底晶圆预对准系统，包括取片机械手、光纤传感模块、预对准平台以及CCD相机，所述取片机械手用于将晶圆传送至预对准平台上，光纤传感模块用于感测晶圆，当传感光纤检测到晶圆后，取片机械...

本发明涉及一种晶圆涂胶显影设备显影腔体，包括主架，所述主架的前端固定有双联气缸，所述双联气缸的顶部安装有显影挡板，所述主架的左端靠近双联气缸的一侧端壁安装有前料斗，所述主架的右端安装有后料斗，所述主架的后端安装有电缸，所述电缸的一端安置...

本申请公开了一种研磨头防碰撞结构，涉及半导体研磨技术领域。其包括驱动件、研磨头，驱动件用于驱动研磨头往复运动，研磨头通过中间组件连接有检测元件，中间组件用于带动检测元件与所述研磨头同步运动；检测元件的一侧间隔设有感应件，用于辅助所检测元...

本技术公开了一种设备冷却装置，用于通冷却介质以对待冷却设备降温，装置包括：冷却介质存储器以及至少两个独立的管体；所有管体排布组成用于冷却待冷却设备的至少部分环形结构；每个管体的两端分别设有冷却介质进口和冷却介质出口；冷却介质存储器与每个...

本申请公开了一种夹持机构，涉及晶圆制造技术领域。其包括驱动件、传递组件及夹爪组件，驱动件通过传递组件与夹爪组件相连接，驱动件用于驱动传递组件往复运动，以带动夹爪组件夹放花篮，传递组件的一侧设有弹性件，弹性件的一端固定，另一端与传递组件或...

本技术涉及一种刻蚀机，尤其是一种刻蚀机翻转机构，包括电机和载具，所述电机安装在机架上，还包括：主动连杆，所述主动连杆的一端与所述电机连接，另一端与所述载具铰接；移料时，所述电机通过所述主动连杆带动所述载具在工艺槽和清洗槽之间往复移动。本...