本技术公开了一种蚀刻加工用清洁装置，涉及线路板领域，包括支撑架与升降支架，升降支架两端均设有升降机构，支撑架内可转动的设有第一转轴与第二转轴，第一转轴与第二转轴同轴设置，第一转轴与第二转轴之间设有旋转板，旋转板上设有夹持组件，支撑架侧面...

本技术公开了一种蚀刻装置，涉及蚀刻领域，支撑架对称设有两个固定架，两个固定架之间设有若干托板，托板中部设有用于承托产品的承托平台，固定架内部开设有纵向导槽，固定架靠近托板的表面开设有与纵向导槽连通的通槽，托板两端分别设有与通槽间隙配合的...

本技术公开了一种蚀刻工装，涉及蚀刻领域，包括承托架，承托架设有插槽，插槽内部设有托盘，承托架上端设有与插槽连通的上开口，承托架下端开设有与插槽连通的下窗口，托盘与下窗口过盈配合，承托架上端可拆卸设有盖板，盖板下端设有若干按压部，按压部贯...

本实用新型提供一种应用于蚀刻系统的气液反应装置，包括第一反应室

本实用新型提供一种新型蚀刻装置，包括反应处理池，所述反应处理池包括蚀刻腔