本发明公开了一种单等离子体源处理石墨的粉体运动控制方法及系统，涉及等离子体材料处理技术领域，具体为一种单等离子体源处理石墨的粉体运动控制方法及系统，该方法通过向单等离子体反应腔室内引入多排高压惰性气体喷射小孔，并位于送粉喷嘴的轴向上下游...

本发明公开了一种带环腔保护气的主反应器结构，涉及等离子体化工设备技术领域，具体为一种带环腔保护气的主反应器结构，包括高温等离子体源及双层水冷夹层的圆柱形环形带隔板主反应器，其尾端为双层倒圆锥形结构。环腔保护气入口位于主反应器上端，与等离...