本发明公开一种厚度渐变的薄膜及其制备方法，该厚度渐变的薄膜的制备方法，包括：提供待处理薄膜基片；待处理薄膜基片包括衬底和形成于衬底一侧表面的薄膜；在薄膜背离衬底的一侧表面形成掩膜，以使薄膜和掩膜形成待研磨结构；掩膜包括相连接的第一区域和...

本发明实施例提供一种光子芯片图案结构的制作方法及系统，涉及光子芯片技术。光子芯片图案结构的制作方法包括：提供晶圆片和掩模版，所述掩模版包括透过区域和阻挡区域；将所述掩模版设置于所述晶圆片的正面一侧，并将所述掩模版与所述晶圆片对准；采用真...