本发明涉及一种用于物体的表面处理的装置，其带有容纳待处理的物体(12)的处理腔(14)、向物体(12)对准的用于UV辐射的辐射源(16)和用于以工作流体加载处理腔(14)的设备(24)，其中，工作流体包含至少一个惰性成分和至少一个光化学...

本发明涉及一种用于曝光基板（200）的装置（1），所述基板具有至少一个曝光单元和掩模（100），所述曝光单元包括用于电磁辐射的辐射发生器（2），并且具有掩模（100），所述掩模对所述电磁辐射来说至少局部是透明的，以用于将包含在掩模中的结...

本发明涉及一种用于使聚合物层（12）辐射硬化的UV辐射设备，所述UV辐射设备具有布置在载体表面（22）上的LED装置（24），所述LED装置包括多个在UV范围内进行发射的、无外壳的LED芯片（26），其中所述LED芯片（26）形成至少一...

本发明涉及一种用于电晕处理印张形扁平材料（３０）的装置和方法，该装置具有一个用于输送扁平材料的可旋转的辊形输送电极（１）、一个在扁平材料（３０）的处理间隙（３１）限制下设置在输送电极（１）对面的处理电极（２ａ，２ｂ）、一个用于在处理电极...