一种沉积薄膜的装置。基板支撑单元可转动地安装于反应器内部并设有多个基板承载部分，其上分别承载多个基板。气体注入单元包括：多个源气体注入器，以提供至少二种不同的源气体至基板支撑单元上；多个冲洗气体注入器，设置于多个源气体注入器之间以提供冲...

提供一种沉积薄膜的装置及其方法，以及一种填隙半导体元件中的沟渠的方法。该薄膜沉积装置包括多个基板，其配备于反应器内的相同空间上，其中借由当旋转基板时在预定的时间间隔上将基板暴露于同时供应的两个或多个源气体及蚀刻气体，来重复薄膜的沉积和对...

本发明提供一种沉积用于相变存储器的硫族化物膜的方法。当通过使用等离子体的方法（例如，等离子体增强型化学气相沉积（ｐｌａｓｍａ　ｅｎｈａｎｃｅｄ　ｃｈｅｍｉｃａｌ　ｖａｐｏｒ　ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＰＥＣＶＤ）或等离子体增强型原子层沉积（...