本发明公开了一种光固化封装组合物，包括光可固化单体，含硅单体，引发剂；所述光可固化单体为分子中不含硅的含有氧杂环烷基的环氧化合物；所述含硅单体包括如下式(1)和式(2)所示的结构；式(1)中，R1‑

本发明涉及一种分级设备及抛光垫，其中抛光垫包括聚氨酯抛光层，聚氨酯抛光层是原料组合的反应产物，所述原料组合包括多官能异氰酸酯与多元醇反应所得的异氰酸酯封端的预聚物、中空微球聚合物以及固化剂，本发明中通过严格控制中空微球聚合物的尺寸及尺寸...

本发明涉及抛光垫，所述抛光垫包括聚氨酯抛光层，所述聚氨酯抛光层中包含有复合金属氧化物微单元，所述聚氨酯抛光层是原料组合的反应产物，所述原料组合包括多官能异氰酸酯与多元醇反应所得的异氰酸酯封端的预聚物、中空微球聚合物以及固化剂，本发明中通...

本发明涉及一种异氰酸酯预聚体、包含其的抛光垫、抛光设备及半导体器件的制造方法。该异氰酸酯预聚体由包括芳香族异氰酸酯、脂环族异氰酸酯、聚醚多元醇、小分子多元醇的原料反应得到，以NCO为封端基团，游离NCO的质量百分数为8.5％～11.0％...

本发明公开一种自修整抛光垫及其制备方法和应用，所述自修整抛光垫包括抛光层，所述抛光层包括不连续相聚合物材料和连续相聚合物材料，所述不连续相聚合物材料均匀分散在所述连续相聚合物材料中，所述连续相聚合物材料包括水溶性聚合物材料和/或水解性聚...

本发明涉及一种抛光垫，其中，所述抛光垫包含有抛光层，所述抛光层是由包含有5～100μm孔隙分隔连续的聚氨酯基材形成的闭孔弹性体，聚氨酯基材经包含多官能异氰酸酯，多元醇组合物以及多元胺组合物经反应得到，其中多元胺组合物包含一种和/或多种二...

本发明公开了涉及光电显示技术领域的碱溶性树脂、正型感光树脂组合物、固化膜及显示装置。该碱溶性树脂包含结构(a1)和结构(a2)；所述结构(a1)包括结构式(a11)和/或结构式(a12)，结构(a2)包括结构式(a21)、(a22)、(...

本发明公开了一种抛光垫及半导体器件的制造方法，所述半导体器件的制造方法包括使用具有特定图案的抛光垫对半导体晶片表面进行研磨的工序；所述抛光垫包括抛光层，所述抛光层包含有中心区域，环状沟槽区域以及外部区域，其中，中心区域未设置有沟槽，外部...

本发明公开了涉及感光树脂材料技术领域的碱溶性树脂、正型感光树脂组合物、固化膜及显示装置。该碱溶性树脂结构包含具有下述结构式(a1)的结构单元或/和具有下述结构式(a2)的结构单元：所述结构式(a1)和结构式(a2)中，A为酸二酐残基。本...

本发明提供一种感光树脂组合物，包含聚酰亚胺或聚酰亚胺前体树脂A、添加剂B、分子内具有2个以上环氧基团的化合物C以及重氮萘醌磺酸酯E，其中，所述添加剂B为结构式(1)所示的分子内同时包含有羟基和羧基或同时包含有羟基和酯基的化合物；本发明中...

本发明公开一种抛光垫，包括研磨层，所述研磨层包括中心区域和设置在中心区域外周的外周区域，定义所述中心区域的半径为R1，研磨层半径为R，在研磨层半径方向上，所述外周区域的宽度W＝R

本发明涉及一种抛光垫及半导体器件的制造方法，其中，所述抛光垫在施加压力F0后的应力松弛阶段t时刻的回复力F

本发明公开了涉及感光树脂材料技术领域的二胺化合物、树脂、感光树脂组合物及固化膜。所述二胺化合物通式如式(1)所示：式(1)中，R表示直键、

本发明涉及一种抛光垫，其中，抛光垫中的缓冲层在施加压力F0后的应力松弛阶段t时刻的回复力F

本发明公开一种用于封装有机发光二极管的组合物，包括光可固化单体，含硅单体和引发剂，所述光可固化单体包括单官能度丙烯酸酯单体和多官能度丙烯酸酯单体中的一种或多种，通过特定结构的含硅单体与光可固化单体的组合，得到的组合物具有优异的透光率，固...

本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域，具体公开一种结构致密且粒径均一的硅溶胶及其制备方法。本发明的硅溶胶，二氧化硅胶体粒子分散在液体溶剂中，二氧化硅胶体粒子的真实密度为2.1～2.2g/cm3，二氧化硅胶体粒子表面的硅烷醇基密度为1.0

本发明公开了一种调色剂的及其制备方法，通过将芳香族二酸与二硫醇进行酯化反应，经过乳化法制备出了新型聚酯树脂，使用该聚酯树脂制备而来的调色剂表现出了优异的显影特性，不仅保证调色剂的低温定影性，而且在高温条件下不容易发生偏移，且带电初期和一...

本发明公开了涉及半导体的化学机械抛光技术领域的抛光垫、研磨设备及半导体器件的制造方法。所述抛光垫具有抛光面，在抛光面上至少设置：一条以上的环形沟槽和一条以上的放射状沟槽，所述环形沟槽与放射状沟槽连通，所述环形沟槽两两不相交；沿抛光面中心...

本发明公开了一种半导体器件的制造方法，该方法包括使用具有特定图案的抛光垫对半导体晶片表面进行研磨的工序；本发明还公开了一种抛光垫，所述抛光垫包括抛光层，抛光层包括抛光表面和位于抛光表面上的抛光单元，抛光单元的一端形成接触表面，接触表面与...

本发明公开了涉及化学机械抛光技术领域的检测窗口、化学机械抛光垫及抛光系统。本发明检测窗口设置在抛光层中，包括透光部和加强部，透光部下表面设置凹陷区域，加强部位于凹陷区域内，加强部与透光部一体成型或粘合为一体；所述加强部设置镂空部分，0＜...