本申请涉及光刻胶技术领域，且公开了一种光刻胶储存设备，包括存储盒，所述存储盒底部设有底板，所述存储盒内部设有存储机构，所述存储盒顶部设有多个顶板，所述存储盒上对称开设有多个卡槽，所述卡槽内部插接有限位卡条，所述限位卡条末端固定连接有握把...

本申请涉及光刻胶罐装领域，且公开了一种光刻胶自动罐装设备，包括主体架和液压杆，所述主体架的内壁均转动连接有多个转辊，转辊的一侧外壁固定连接有第一转动电机，所述液压杆的上表面固定连接有安装架，安装架的上端固定连接有胶罐，所述胶罐的上表面固...

本申请涉及基板干燥技术领域，且公开了一种光刻胶减压干燥装置，包括干燥箱，所述干燥箱上设置有密封门，所述干燥箱的顶部固定安装有风机，所述风机的输出端安装有真空机构，所述干燥箱的内底部固定安装有干燥台，所述干燥箱内一侧固定安装有反光镜，所述...

本申请涉及半导体喷涂领域，且公开了一种光刻胶涂覆装置，包括点胶机，所述点胶机底部设置有固定台，所述固定台上安设有放置板，所述固定台上还安设有固定块，所述固定块上开设有竖槽，所述竖槽中安设有推动机构，所述放置板中开设有工作腔，所述工作腔中...

本发明公开了一种光刻胶显影液及其制备方法，属于光刻技术领域，一种光刻胶显影液，包括以下质量份原料：强亲水高分子材料

本发明公开了一种光刻胶底部的抗反射涂层树脂的制备方法，属于光刻胶技术领域，包括以下步骤：将主体物质