本发明公开了一种光蚀刻用复合显影液，主要应用于窄线宽的集成电路和高分辨率薄膜晶体管液晶显示器领域，其组成比例为：包含重量百分比为0.1-25%TMAH和0.1-25%TEAH，其余为水；TMAH与TEAH的重量比在3-5:1。本发明复合...

本发明公开了一种光蚀刻显影液的制备方法，本发明通过混合一定比例的三甲胺，三乙胺，和碳酸二甲酯，合成四甲基铵和三乙基单甲基铵碳酸单甲酯混合物中间体。然后经过水解，纯化，电解工序得到四甲基氢氧化铵和三乙基单甲基氢氧化铵混合铵显影液溶液。同时...