本实用新型公开了一种多晶硅生产还原炉用电极组件，包括设置于还原炉底盘上的绝缘支撑组件，卡接于所述绝缘支撑组件上的电极，设置于所述电极顶部的石墨底座，固定设置于所述石墨底座上的石墨卡瓣和控制所述石墨卡瓣开合的石墨卡套；所述绝缘支撑组件包括...

本实用新型公开了一种多晶硅生产尾气中氯硅烷的回收系统，包括废气缓冲罐、变压吸附系统、热源、冷凝器和废气淋洗塔；其中变压吸附系统包括气体压缩机、活性炭吸附器以及第一过滤器、第二过滤器和第三过滤器；所述活性炭吸附器包括三个并列设置的活性炭吸...

本实用新型公开了一种多晶硅生产酸性尾气淋洗系统，包括淋洗塔和淋洗液池；淋洗上设有塔进气管、出气管和风机，淋洗塔内部由上至下依次设有除雾层、第一喷淋区、第一填料层、第二喷淋区和第二填料层，第一喷淋区内有第一喷淋头，第二喷淋区内有第二喷淋头...

本实用新型公开了一种还原炉启炉前打压检测装置，包括测试夹具和可调变压器，测试夹具包括上端开口的绝缘壳体，绝缘壳体底壁上设置有通孔，通孔内滑动设置有绝缘支撑杆，绝缘支撑杆顶部设置有金属片，金属片两侧连接有导线，绝缘壳体侧壁上设置纵向槽口，...

本实用新型公开了一种四氯化硅回收装置，包括提纯塔、再沸器、高沸物储罐、蒸发器、蒸干器、尾气冷凝器和冷凝液储罐，再沸器设置于提纯塔下部，提纯塔下部高沸物排出口与高沸物储罐进口连接，高沸物储罐出口与蒸发器上部进口连接，蒸发器上部出口与尾气冷...

本实用新型公开了一种多晶硅生产用还原炉，包括底座，电极，硅芯，炉体和气体循环装置；底座内部设有导流腔，导流腔的顶壁上开设有若干炉体出气孔；炉体包括外炉体，内炉体和夹套层，炉体出气孔与内炉体相连通，外炉体上设有冷媒进管和冷媒出管；气体循环...

本实用新型公开了一种多晶硅生产氢化除渣系统，包括氢化反应炉、过滤存渣罐和氯硅烷冷却器；过滤存渣罐包括罐体，隔板，滤芯和放渣装置，所述罐体底部设有罐体排渣管及罐体排渣阀门；放渣装置包括储气仓、杂质仓和运输罐；储气仓的顶部设有储气仓进管及储...

本实用新型公开了一种制备多晶硅的还原系统，包括底座，原料供应系统，原料混配装置和还原炉；原料供应系统包括氢气储罐和三氯氢硅储罐，原料混配装置包括换热箱，气压平衡箱，气体混合器和气体配比装置；换热箱包括换热箱体和换热箱盖；气压平衡箱包括平...

本实用新型公开了一种多晶硅系统导热油加热炉排气管，涉及加热炉排气管的制造领域。多晶硅系统导热油加热炉包括燃烧炉和排气管，燃烧炉出口与排气管连接，在排气管出口与燃烧炉出口之间有挡风板，挡风板通过轴与排气管管壁连接。本实用新型，在燃烧炉出口...

本实用新型公开了一种用于多晶硅生产的氢气循环装置，包括多晶硅还原氢气循环系统和冷氢化氢气循环系统；其特征在于所述多晶硅还原氢气循环系统中的还原氢气缓冲罐底部的出口通过装有连通阀的管道与冷氢化氢气循环系统中的冷氢化补充氢气缓冲罐的底部进口...

本实用新型公开了一种还原炉出气孔分气帽，其特征在于所述还原炉出气孔分气帽由圆锥体形分流帽和周壁上设有进气孔、底面设有出气孔以及出气管的排气管道组成。由于所述分气帽的上端设有圆锥体形分流帽，增加了气体在还原炉内流动的路径，避免了还原炉外圈...

本发明公开了一种多晶硅系统制氮制动风机用空气的处理方法，涉及制动风机用气体制造领域。包括以下步骤：（1）将空气压缩至0.05～2MPa，再冷却至0～50℃，分离去掉游离水；（2）将第（1）步得到的气体继续冷却至0～20℃，分离去掉冷凝水...

本实用新型公开了一种多晶硅还原炉热量回收制热水装置，所述装置由软化器、软化水箱、热交换器、热水箱组成；软化器的进水口上装有原水进水管，软化器的出水口与软化水箱的进水口通过软化水管相连通；软化水箱的出水口与热交换器的进水口通过装有水泵和调...

一种还原炉炉筒夹套放气阀装置，其特征在于所述装置包括第一手动阀、第二手动阀、气动开关球阀、二位五通电磁阀、电源和压力变送器，所述第一手动阀位于还原炉与放油气管间，所述第二手动阀位于放油气管的下端，所述装置在靠近第二手动阀的上端放油气管上...

本实用新型公开了一种多晶硅系统用氢压机系统，包括进气系统、氢压机、排气系统。氢压机从左向右依次为油池、气封仓、泄漏仓、压缩气缸，活塞杆在四个腔体中运动。进气系统包括第一管道（12）、第二管道（13）、第五管道（14）；排气系统包括第三管...

本发明公开了一种四氯化硅热氢化方法，将四氯化硅和氢气的混合气体输送至还原炉内，在硅芯表面发生反应，制得的固体硅沉积在硅芯表面，反应后的混合气体通过鼓泡淋洗、加压冷凝、吸收脱吸、活性炭吸附，最终得到液态的三氯氢硅。本发明既生成了多晶硅又生...

本发明公开了一种多晶硅还原炉炉筒清洗方法，包括下述步骤：（1）拆开多晶硅还原炉的视镜；（2）用去离子水对还原炉炉筒内壁进行冲洗；（3）用涤纶无纺布蘸取质量分数为5%-10%的氟化氢铵溶液对炉筒内壁进行擦拭，让其溶液在内壁停滞10-15m...

本发明公开了一种四氯化硅的低温水解方法。将汽化的四氯化硅水解；水解后的混合物进行压滤；将滤液输送至水解塔中对四氯化硅进行水解，直到所得滤液中HCl的质量浓度达到20-30%，得到盐酸；研磨滤饼至无块状存在；将研磨后混合物进行水洗、打浆；...