一种用于涂覆衬底的设备，包括真空腔室，具有开口和门，通过开口能够容纳衬底，以及门配置成密封开口；一个或多个靶，布置在真空腔室中；配置成冷却衬底的冷却单元和/或配置成加热衬底的加热单元；旋转装置，配置成相对于一个或多个靶、冷却单元和/或加...

滚动元件轴承的直线轴承和滑动轴承的轴承部件，例如选自包括轴承座圈、滚动元件比如锥形滚子、桶状滚子、针状滚子、轴承滚珠和滚动元件笼的组的部件，轴承部件在所述制品的至少一个表面区域上具有通过PVD方法、通过CVD方法或通过PECVD方法应用...

一种涂覆的钢制品，具有通过PVD方法、CVD方法或PECVD方法应用在所述制品的至少一个表面区域上的具有高硬度和高耐磨性的至少一个层，和包括通过ALD方法沉积在具有高硬度和高耐磨性的所述至少一个层上的至少一个材料层的至少一个ALD层，其...

本发明涉及用于在多个工件和一个工件上沉积无氢四面体非晶碳层的装置和方法，该装置包括至少下列部件：a）真空室，其可连接到一种惰性气体源和一真空泵，b）用于一个或多个基底（工件）的支撑装置，其被插入或可插入该真空室，c）至少一个具有相应的磁...

一种用于处理至少一个基板（１２）的真空处理装置（１０），包括处理室（１４）、至少一个阴极（１６）、与该阴极相关联、用于产生在该室中以气相存在的物质的离子和／或形成该阴极的物质的离子的电源（１８）、基板托架（２０）和偏置电源，该偏置电源用...

本发明涉及具有相对软的支撑材料，可选的涂覆到支撑材料的连接层或者连接层系统，和相对硬的装饰层的制品。另外，本发明涉及制造这种制品的方法。