硅谷化学实验室公司专利

硅谷化学实验室公司专利技术

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应用羧酸羟铵除去耐蚀膜和蚀刻残余物的组合物和方法技术

一种用弱羧酸部分地中和的羟胺与有机溶剂（例如烷基亚砜、吡咯烷酮或砜）的混合物，该混合物从基片除去固化的光刻胶和聚合光刻胶残余物，减小了金属腐蚀。

最后更新日期：2012-04-11 18:40 访问量：190