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硅半导体公司专利技术
硅半导体公司共有2项专利
具有防止基区穿通的横向延伸基区屏蔽区的功率半导体器件及其制造方法技术
一种功率MOSFET(10),它包含其中具有漂移区的半导体衬底(102)以及延伸在漂移区和半导体衬底第一表面(102a)之间的过渡区(130)。过渡区(130)中具有垂直退减的掺杂分布,其峰值在相对于第一表面(102a)的第一深度处。而...
具有伸入较深的以沟槽为基础的源电极的以沟槽为基础的交叉栅电极的垂直MOSFET及其制造制造技术
垂直MOSFET包括一个半导体衬底,其中有一些半导体台面,它们被许多深条形沟槽分开。这些条形沟槽沿纵向沿第一方向平行伸过衬底。在这些深条形沟槽内形成一些埋入式绝缘源电极。还提供一些绝缘栅电极,它们平行伸过那些半导体台面并伸入在这些埋入式...
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