本申请提供一种用于生长单晶金刚石材料的MPCVD沉积腔体及用于生长单晶金刚石材料的方法；所述MPCVD沉积腔体包括：其包括一腔体本体；在腔体本体底部中心开设有微波馈入口，在腔体本体上部设有气体注入口；在微波馈入口上方设有与其密封连接的基...

本发明涉及离子注入机领域，公开了一种用于带状离子束的质量分析磁铁系统，该系统共由一个四极聚焦磁铁、一个二极偏转磁铁和一个分析狭缝组成；其中四极聚焦磁铁对离子源引出的大尺寸、大散角离子束进行初始的长轴聚焦，短轴散焦；二极偏转磁铁产生高度均...

本发明公开了一种用于激光加速器的真空光学平台隔振装置，包括光学平台

本申请提供一种粒子束剂量调节装置及其方法、放射治疗设备；所述装置包括内置有中空管状体的主体结构，其中，主体结构的一端连接放射束源，另一端设计为输出端口；中空管状体为粒子束提供传输通道，将粒子束传导至所述输出端口；剂量调节组件，密封连接于...

本申请提供一种免疫放疗治疗设备及其应用方法，通过设计了包括放射束源、引导部件以及控制系统的免疫放疗治疗设备，将引导部件插入到癌症组织的预定位置，根据癌症组织的病理数据计算剂量率及持续治疗时间，利用控制系统控制放射束源输出设定剂量率的电子...

本申请涉及一种分析磁铁结构及宽幅离子源，该分析磁铁结构包括：设于离子束束流传输线上的第一永磁体、电磁铁以及第二永磁体；第一永磁体产生第一磁场，所述电磁铁产生电磁场，所述第二永磁体产生第二磁场；第一磁场对离子束产生垂直于参考平面的第一垂直...

本申请涉及一种挂架收发系统及连续镀膜生产线，所述挂架收发系统包括：收发平台，以及至少一个挂架平台；挂架平台在使用时平行于收发平台放置；挂架平台上排列承载多个挂架，收发平台上设有平移平台；平移平台沿着平行方向进行运动，将传动结构对准挂架平...

本发明公开了一种具有快速切换时序控制装置的双前端强场激光系统及方法。本发明采用两个前端放大系统，为高能激光提供一个前端备份，当一个前端放大系统故障时，能够利用另一个前端放大系统，这样保证整个激光系统依然能够继续使用；对于激光脉冲，泵浦也...

本发明公开了一种高对比度拍瓦激光装置及其控制方法。本发明将振荡器的第一腔镜通过第一压电陶瓷安装在镜架，将第二腔镜通过第二压电陶瓷安装在镜架上，对于长时间对激光腔长的锁定，激光腔长的长时间的腔长漂移将超出压电陶瓷量程；第二压电陶瓷能够高精...

本发明公开了一种产生可压缩的相干拉曼脉冲光纤激光的系统，属于激光技术领域，其包括：脉冲激光源、第一泵浦、第一波分复用器/合束器、高反射光纤光栅、第一增益光纤、低反射光纤光栅、隔离器、第二泵浦、第二波分复用器/合束器、第二增益光纤、滤波组...

本申请涉及一种电子设备金属外壳的制备工艺及其加工设备，所述制备工艺包括：将熔融金属液在高压高速下浇铸入外壳模具的压室内铸型，并在高压下结晶凝固成型得到电子设备的金属外壳铸件；将金属外壳铸件放入真空腔室，采用PVD镀膜方式在金属外壳铸件的...

本申请涉及一种肿瘤放射治疗设备及其控制方法，所述设备包括：激光器，电子加速腔室；其中，电子加速腔室的首端连接激光器，电子加速腔室设置为真空状态；激光器向电子加速腔室输入激光光束，激光光束在电子加速腔室内与导入的气体靶相互作用，在靠近肿瘤...

本申请涉及一种引出带状离子束的离子源，包括长方体结构的弧腔以及设于弧腔外部的磁场结构；弧腔的第一侧面上设有微波窗和进气口，微波窗用于向弧腔内导入微波能量，进气口用于向弧腔内部通入气体；弧腔的第二侧面上设有引出带状束离子的引出极，用于从弧...

本申请涉及一种离子分离器、离子同轴传输束线及离子束加速器，所述离子同轴传输束线包括离子分离器和离子合束器；其中，离子分离器包括同轴连接的第一电磁场结构和第二电磁场结构；离子合束器包括串联连接的第三电磁场结构和第四电磁场结构；离子分离器用...

本发明公开了一种激光打靶防溅射装置及方法，该装置设置在聚焦镜与靶之间，包括可旋转的转轮，在转轮非中心位置设置有打靶孔，激光打靶时，打靶孔位于激光光路上，使得激光穿过转轮，轰击靶；激光打靶后，转轮旋转使得打靶孔转离激光光路，打靶产生的飞溅...

本申请涉及一种工件架、镀膜设备及真空镀膜机；所述工件架包括：卧式安装的转筒以及驱动装置；其中，所述转筒内侧面上设置有突出部；所述驱动装置用于驱动所述转筒进行转动；所述转筒用于放置待镀膜的工件，并通过所述突出部带动放置在转筒内的工件向上运...

本申请涉及一种真空腔室结构及真空镀膜设备，所示真空腔室结构包括：包括一个设有镀膜区和后处理区的真空腔室，所述真空腔室的室壁上设有抽气口，所述真空腔室的镀膜区与后处理区之间设置有阻隔装置；所述阻隔装置对从所述后处理区扩散至所述镀膜区的气体...

本申请涉及一种镀膜材料保护装置、镀膜材料密封腔室及真空镀膜设备，所述镀膜材料保护装置应用于对真空镀膜设备的镀膜材料进行密封保护；其中真空镀膜设备设有真空腔室，以及连接真空腔室的镀膜材料腔室；镀膜材料保护装置包括：嵌入在镀膜材料腔室内的密...

本发明公开了一种激光加速质子束流的均匀化方法。本发明采用扁平磁场转置四极磁铁和高阶磁铁，并通过设置扁平磁场转置四极磁铁和和高阶磁铁的聚焦强度以及束流漂移段的距离之间的距离，实现质子束流均匀分布；本发明摒弃了传统治癌加速器使用连续扫描叠加...

本申请涉及一种密封件镀膜装置及密封件镀膜方法，所述装置包括：分布式腔体结构以及导气管；所述分布式腔体结构包括多个分布式设计的腔体，每个所述腔体与需要镀膜的密封件相匹配；每个所述腔体内设有一根导气管，用于接入镀膜气体；在镀膜时，所述密封件...