本技术公开了晶圆清洗装置技术领域的一种十腔体小尺寸单片晶圆清洗装置，包括上料机构，机箱的中部设有清洗机构，机箱远离所述上料机构的一端设有下料机构，通过设置第一上料托盘堆叠模组与第二上料托盘堆叠模组、第一上料托盘回收堆叠模组与第二上料托盘...

本技术涉及吹干装置领域的一种用于工件清洗机的吹干装置，包括清洗摆臂、固定喷淋臂和转盘，转盘的下端连接有旋转主轴，转盘上设置有用于夹紧工件的夹具，清洗摆臂设置于转盘的上方，固定喷淋臂设置于转盘的下方，所述转盘的上方还设置有吹风组件，吹风组...

本技术公开了晶圆翻转机构技术领域的一种可防止晶圆摔跌的翻转机构，包括旋转平台、伺服电机、第一限位模组及第二限位模组，第一限位模组和第二限位模组均包括第一活动板、第一治具板、第一升降气缸、第二活动板、第二治具板以及第二升降气缸，第二治具板...

本技术公开了真空等离子清洗机技术领域的一种在线式双轨道真空等离子清洗机，包括机箱，机箱的内部设有双轨道上料输送机构、双轨道下料输送机构、真空箱机构以及推料机构，Tray盘或钢片载具放置在双轨道上料输送机构中的两个输送轨道上进行传输，推料...

本技术公开了晶圆清洗加工技术领域的一种兆声波清洗机构，包括机架，所述机架安装有溢流传导箱，所述溢流传导箱的内部安装有石英缸，溢流传导箱的底部设有兆声震动单元，所述石英缸的底部设有斜面，且石英缸的底部与溢流传导箱的内壁之间具有间距以形成溢...

本技术涉及热水机领域的一种溢流式恒温热水机，包括机箱，机箱内设置有加热腔和电控腔，机箱的前端设置有用于盖合加热腔和电控腔的箱门，所述加热腔内设置有加热组件，加热组件包括冷水口、热水口和加热器，加热器设置有四个以上，四个以上的加热器之间通...

本技术涉及晶圆清洗设备领域的一种双层四腔室单片晶圆清洗设备，包括机体，机体内设置有上料区、送料区和清洗区，清洗区设置有上清洗层和下清洗层，上清洗层和下清洗层上均设置有两个清洗腔室，送料区上设置有升降导轨、平移导轨和可翻转的机械臂，机械臂...

本技术涉及晶圆换盒周转领域的一种晶圆自动换盒装置，包括机架和晶圆盒，机架的两端分别为上料工位和下料工位，所述机架上设置有料盒平移组件、寻边定位组件、料盒校正组件、平移丝杆组件、顶升组件和夹持组件，设置于机架的上料工位和下料工位处均设置有...

本技术涉及单片清洗装置领域的一种药液回收与废气去除一体的单片清洗装置，包括清洗卡盘、清洗腔室和旋转主轴，所述清洗腔室的下端设置有水气分离箱，清洗腔室与水气分离箱通过回收管道连通，回收管道包括挡圈回收管和分离箱回收管，挡圈回收管和分离箱回...

本技术公开了清洗机技术领域的在线式组件清洗机，包括外机架，且外机架的顶部设有三色灯以及至少一个风机过滤单元，所述外机架的内部设有物料输送机构、盖板输送机构、上料机构、下料机构及储料机构，所述外机架的中部设有内机架，所述内机架呈空心状以形...

本发明涉及干燥方法领域的一种碳化硅衬底的干燥方法，该干燥方法包括以下步骤：第一步，准备干燥装置，第二步，花篮校正，第三步，顶起碳化硅衬底，第四步，超纯水溢流，第五步，慢拉干燥，第六步，干燥花篮，第七步，除静电，第八步，移除花篮。采用慢拉...

本发明涉及清洗方法领域的一种衬底晶片的清洗方法，包括以下步骤：第一步、SPM溶液清洗，晶片放入SPM槽体中进行浸泡；第二步、HF溶液清洗，晶片放入DHF槽体内浸泡；第三步、SC2溶液清洗，将晶片放入SC2槽体内浸泡；第四步、SC1溶液清...

本发明公开了RCA槽式清洗设备技术领域的RCA槽式清洗设备药液浓度自动补偿系统及补偿方法，药液浓度自动补偿系统包括补液箱、供液柜、药液槽、浓度机及控制器，补液箱与供液柜之间设有进液管与进液气动阀，补液箱与药液槽之间设有补液管与补液阀，一...

本技术涉及清洗机领域的曲边玻璃清洗机，包括上料装置、下料装置和清洗机体，上料装置和下料装置分别设置于清洗机体的两端，所述清洗机体内设置有三个以上的清洗机组，相邻的两个清洗机组首尾相连，靠近下料装置一侧的清洗机组连接有风干机组，风干机组远...

本技术公开了清洗机领域的滚筒毛刷清洗机，包括机罩，机罩内设有上下划分的隔板，隔板表面设有依次衔接的入料轨道、清洗轨道和下料轨道，隔板表面设有顺着入料轨道、清洗轨道和下料轨道滑行的载板，清洗轨道中间段设有从下方向上顶出载板的挡板以及对位板...

本技术公开了托盘清洗技术领域的自动托盘清洗机，包括机架，机架的设有上料装置、下料装置、喷淋段及烘段，所述喷淋段包括正面喷淋管与反面喷淋管，喷淋段与烘段的内部均设有输送轨道组件，输送轨道组件具有倾斜角度，双通道的设置能够大幅度提高清洗效率...

本技术公开了清洗机领域的晶圆盒清洗机，包括机罩，机罩内设有由顶板、底板和若干侧面板拼接而成的清洗室，顶板下方设有上旋转片，顶板上方设有穿过顶板连接并控制上旋转片旋转的驱动电机和减速机，底板上方设有下旋转片，底板连接有用于支撑下旋转片的支...

本技术涉及清洗机领域的单晶圆清洗机，包括机架，机架内设置有清洗室、搬运装置和校正装置，机架外侧设置有上料装置，所述清洗室内设置有风干组件、清洗组件和清洗治具，清洗治具包括清洗内腔，清洗内腔设置于清洗室的中部，清洗内腔的上端设置有挡水圈，...