本发明涉及石墨加工技术领域，尤其是一种三代半导体用等静压石墨制品生产焙烧装置，包括焙烧炉体和干燥炉体，所述焙烧炉体和所述干燥炉体的两侧均开设有导料槽，所述焙烧炉体和所述干燥炉体之间设置有隔热板，所述隔热板的两端分别延伸至所述焙烧炉体和所...

本发明涉及等静压石墨冷却设备相关领域，具体是涉及一种半导体大硅片制造用等静压石墨加工冷却设备，包括两个冷却腔和两个内夹具层，每个内夹具层均包括外封板、外夹具以及端部顶板，每个外夹具均包括若干个异形夹具，每个异形夹具均包括短夹板和长夹板；...

本发明涉及石墨舟技术领域，具体是涉及一种三代半导体用等静压石墨舟，包括若干个一号石墨片和二号石墨片，还包括承托台、水平滑动机构、限位件、等距调节机构和若干组连接件，水平滑动机构包括若干对石墨片载具，每个石墨片载具上均设有若干个控距块，每...

本发明涉及焙烧炉技术领域，具体公开了三代半导体制备加压焙烧炉，包括：炉体及其内部的可变承载架；所述可变承载架包括多个相互链接的承载节点，多个所述承载节点可形成三种状态并相互转化；其中，在第一种状态下，多个所述承载节点可形成左右等高的U型...

本发明涉及石墨舟技术领域，具体是涉及一种三代半导体用等静压石墨舟连接结构，包括导热板，以及安装在导热板周侧的壳体边框，壳体边框底部设置有若干个用于连接散热基板的安装孔，壳体边框的两端均设置有两个夹持块，夹持块安装在驱动单元的工作端，壳体...

本发明涉及等静压石墨加工设备领域，具体是涉及一种三代半导体用等静压石墨治具散热台，包括机架，以及安装在机架上的石墨治具，机架上还设置有保温筒和冷却筒，机架上固定安装有直线驱动器，直线驱动器驱动石墨治具在保温筒和冷却筒内部沿竖直方向移动；...

本发明涉及石墨化炉技术领域，尤其是一种半导体大硅片制造用等静压石墨的石墨化炉进料机构，包括石墨化炉，所述石墨化炉一侧设置有楼梯，且所述石墨化炉顶端一侧设置有电控转动支架，且所述电控转动支架呈倒L型设置，所述电控转动支架顶端固定安装有进料...

本发明涉及半导体检验技术领域，具体为一种三代半导体用等静压石墨衬底检验台，包括工作台，所述工作台的顶部固定连接有多个对称设置的支撑杆，且支撑杆的上端固定连接有加热罩

本发明涉及石墨坩埚生产技术领域，尤其是涉及一种三代半导体用等静压石墨坩埚生产用焙烧固定装置，包括框架，所述框架的中段高度处固定有隔热板，且框架的上侧等间距固定有多个承载板，还包括：多个固定支撑机构，多个所述固定支撑机构分别固定在多个承载...

本发明公开了一种三代半导体用等静压石墨坩埚，涉及石墨坩埚技术领域，包括等静压石墨坩埚主体和底座，等静压石墨坩埚主体的表面开设有漏口，底座的上表面固定连接有多个对称设置的固定块，多个固定块的上表面共同固定连接有支撑座，支撑座的表面设置有插...

本发明公开了一种三代半导体用等静压石墨连续高温设备，涉及半导体材料加工技术领域，包括：底座；通过驱动部件的运转，在传动机构的作用下，带动石墨坩埚与搅拌件进行同步反向转动；通过传动机构的运转，在滑动部件的作用下，带动石墨坩埚进行前后的持续...

本发明公开了一种三代半导体用带碳化硅涂层的石墨坩埚，属于石墨坩埚技术领域，包括固定底板，所述固定底板上固定设置有安装环，所述安装环上固定设置有两个对称设置的支架，且两个所述支架上均固定设置有支撑台，两个所述支撑台上均转动设置有转轴，其中...

本发明公开了一种三代半导体用等静压石墨舟用支撑舟脚，涉及石墨舟技术领域，包括舟体、舟脚、电极块、支撑柱、浮动套、空心套；多个水平穿设于空心套上的刮板，刮板在空心套上能自由滑动；用于在空心套朝上移动时，能够驱动多个刮板沿空心套径向运动的驱...

本发明涉及特种石墨加工技术领域，具体是涉及一种带有保温结构的特种石墨加工用高温真空炉，包括安装架和保温炉本体，保温炉本体前后两端开口通过前封闭盖和后封闭盖封堵，安装架上设置有环绕保温炉本体周侧等间距分布的散热孔，安装架周侧还设置有环绕保...

本发明涉及石墨舟技术领域，并公开了一种加强型石墨舟，包括承载板，所述承载板的两端均固定连接有侧板，其中一个所述侧板上滑动装配有固定架，所述固定架上装配有若干安装框，若干所述安装框上均装配有石墨舟板；所述固定架上设置有等距调节组件，所述等...

本发明涉及石墨加工技术领域，具体是涉及一种特种石墨粉的高效焙烧装置，包括焙烧筒、偏心转筒和两组弹性伸缩刮板，通过两组弹性伸缩刮板将焙烧筒与偏心转筒之间的区域隔断成两个相对称的焙烧区，焙烧区的位置和形状均会随着两组弹性伸缩刮板的旋转不断变...

本发明涉及一种采用福速达(FPP)工艺制备等静压石墨的方法。具体而言，本发明涉及一种高强度细颗粒等静压石墨的制备技术。使用冷等静压一次成型技术，使粉料颗粒在压型过程中充分重排，制备的石墨化产品各向同性度在1.05以下，材料均匀性极好。材...

本发明公开了一种硅片石墨舟用冷却机构，具体涉及冷却技术领域，包括工作台，所述工作台的顶部设置有载具，所述载具的内部设置有用于放置硅片石墨舟的碗形槽，所述碗形槽的底部设置有波纹凸起，所述工作台的顶部设置有固定腔，所述固定腔的内部安装有风扇...

本发明涉及焙烧炉领域，具体是涉及一种等静压石墨制备加压焙烧炉。包括：反应舱，其侧壁上成型有投料口；复位机构包括定位套壳，定位套壳设置在反应舱的上端；同步顶升组件包括滑移顶板、两个第一泄气机构和两个抵紧机构，滑移顶板与反应舱的内壁滑动连接...

本发明公开了一种用于石墨化炉的进料机构，具体涉及石墨化炉技术领域，包括石墨化炉体，所述石墨化炉体的炉口一侧设置有承载台，所述承载台的正上方设置有输料管，所述输料管的一端底部靠近炉口的一侧设置有出料口，且输料管的另一端顶部连通有出料管，所...