本发明涉及一种感受器系统，用于处理基片和／或晶片的装置，该感受器系统提供有由至少两个壁界定的处理腔室（１），并有至少一个加热螺线管（９）；该感受器系统包括至少一个感受器元件（２、３），该感受器元件由外表面界定，并由适于通过电磁感应加热的...

本发明涉及一种用于处理基片和／或晶片的装置的感受器系统，该感受器系统设有空腔（１），该空腔（１）作为用于处理基片和／或晶片的腔室，且该空腔（１）沿纵向方向延伸，并由上部壁（２）、下部壁（３）、右侧壁（４）和左侧壁（５）来界定，上部壁（２...

本发明介绍了一种系统，用于处理基片和／或晶片的装置，该系统包括：静止基座元件（６００）以及用于至少一个基片或至少一个晶片的活动支承件（６１０），该支承件可在该元件（６００）上面绕静止轴线旋转；腔室（６１０）；以及至少一个导管，用于允许至...

本发明公开了一种用于能够处理基片和／或晶片的装置的支承系统（１），所述系统包括具有基本平坦表面的固定基件（１０），在平坦表面上形成有带有基本平坦底部的基本圆柱形的支座（１１），以及可动的支承件（２０），其具有基本为盘形的形状，置于所述支...