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EQ全球株式会社专利技术
EQ全球株式会社共有2项专利
具有多个电极组件或注入气体的等离子体反应器制造技术
公开具有多个电极组件或注入气体的等离子体反应器。所述等离子体反应器包括本体及形成于所述本体上的相隔的多个电极组件。其中,所述电极组件具有形成于所述本体上的电介质及形成于所述电介质上的电极,所述电极组件的电极被施加电源时发生等离子体反应以...
源匹配器制造技术
本发明的源匹配器,能够包括:RF振荡部,用于向安装在腔室内的多个线圈加载等离子体生成用电力;RF匹配器部,用于将负载阻抗(load impedance)匹配到上述腔室、上述RF振荡部以及上述线圈中的至少一个的特性阻抗(character...
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