东微电子内江有限公司专利技术

东微电子内江有限公司共有2项专利

  • 本发明提供一种形成刻蚀孔的方法,包括:提供晶圆,晶圆包括衬底以及位于衬底表面的待刻蚀膜层;采用预设刻蚀工艺去除部分待刻蚀膜层,在衬底上形成刻蚀孔;在形成刻蚀孔的过程中,利用CCD相机实时采集刻蚀孔底部的光学信息;基于光学信息,计算刻蚀孔...
  • 本发明提供一种直线电机的扰动数据采集方法,属于直线电机技术领域,该方法包括:获取直线电机在运行过程中产生的多源信号集合;对多源信号集合进行特征编码,得到深度特征矩阵,深度特征矩阵用于描述当前时刻及历史时间窗口内的多个多源信号;将深度特征...
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