本申请公开了一种偏转线圈的控制方法、电子束曝光机、介质及产品，应用于电子束曝光技术领域。方法应用于包括第一数模转换器、第二数模转换器和偏转线圈的电子束曝光机，第一数模转换器的转换速率低于第二数模转换器，第一数模转换器的转换精度高于第二数...

本发明提供一种插拔式电子探测器及显微镜，涉及电子显微镜技术领域。将该探测器设置为分体式结构，其具体包括基座和与基座对应可拆卸连接的电控组件和芯片组件，相较于现有的一体式结构的探测器，有效提高了安装或维护时的便捷性；进一步地，基于电控组件...

本申请涉及精密仪器领域，尤其是涉及一种升降载样装置及扫描电子显微镜。升降载样装置用于扫描电子显微镜，所述升降载样装置包括底座、驱动机构和载样台；所述扫描电子显微镜包括样品台，所述底座与所述样品台可拆卸连接；所述驱动机构安装于所述底座，且...

本申请涉及透射电子显微镜技术领域，尤其是涉及一种透射电镜原位样品杆。透射电镜原位样品杆包括杆体、芯片、光纤和采集组件。芯片搭载于杆体一端的杆头上，芯片用于装载和加热样品；样品在700℃及以上的高温段能够辐射出红外光。光纤穿设于杆体内，光...

本申请公开一种导航定位方法、电子设备、扫描系统、介质及产品，应用于半导体检测技术领域。方法包括：获取光学相机采集的待测样品的整体图像；控制扫描电子显微镜的位移台分别移动，以使得至少三个预设标记点分别位于扫描电子显微镜的视场中心，并获取对...

本申请公开了一种写场曝光方法、曝光设备、电子设备、介质及产品，应用于光刻技术领域。方法包括：基于曝光设备的写场范围，将待曝光图形划分为多个待曝光区域；降低相邻的多个待曝光区域相对的边缘区域的曝光时间，相邻的多个待曝光区域相对的边缘区域对...

本申请涉及材料测试技术领域，尤其是涉及一种样品初筛辅助装置及样品初筛方法。样品初筛辅助装置包括基座、载样座和调节组件，载样座通过基座可活动地安装于扫描电镜的进样口处，载样座用于插装样品杆的芯孔与进样口相对，使样品杆装有TEM样品的载样端...

本申请公开了一种混合曝光方法、曝光系统、存储介质及程序产品，应用于光刻技术领域。方法包括：基于预设的曝光精度，将待曝光图形划分为第一图形区域和第二图形区域，第一图形区域的曝光精度低于第二图形区域的曝光精度；采用第一曝光工艺对第一图形区域...

本申请公开了一种校准方法、电子束曝光机、电子束曝光系统、介质及产品，应用于电子束光刻技术领域。校准方法应用于电子束曝光机，电子束曝光机包括位移台和偏转线圈，校准方法包括：扫描预设标记图案，以生成第一标定图像；控制位移台移动，以使得预设标...

本申请公开了电子束曝光机及其写场畸变校正方法，校正方法包括：在晶圆上确认一个标记位置；生成包括多个理想点的坐标的第一扫描数据，并基于标记位置及写场的参数生成位移台移动晶圆的多个移动位置；位移台按照多个移动位置逐次移动晶圆，并在每次移动晶...

本申请公开了电子束曝光机及其曝光方法，电子束曝光机包括位移台、电子枪及电子束聚焦偏转系统。曝光方法包括：电子枪开启并向位移台上的晶圆发射电子束；针对晶圆上单个写场内的单个待曝光位置执行：电子束聚焦偏转系统在偏转时间段内控制电子束偏转并到...

本发明提供了一种匀光控制方法、复眼透镜单元及光刻系统，该方法基于LED紫外光源对应的光斑入射参数在光刻系统中设置与光源对应的复眼透镜单元；其中，复眼透镜单元中包含双排复眼透镜和聚光透镜；然后获取双排复眼透镜对应的第一焦距、双排复眼透镜与...

本申请公开一种晶圆测试装置及晶圆测试套装，晶圆测试装置包括真空腔体、载台、第一移动件和第二移动件。真空腔体具有容纳腔。载台设置于容纳腔内，载台被配置为承载晶圆。第一移动件可沿第一方向相对载台移动。第一移动件设有探针，探针位于容纳腔内，探...