本发明公开了一种镁合金表面防护装饰涂层及其制备方法，该防护装饰涂层包括底层、中间层和顶层，所述底层为化学钝化层，厚度约为10～200nm，所述中间层为油漆层，厚度为5～300μm，所述顶层为PVD镀膜技术制备的装饰涂层，厚度为0.5～2...

本申请涉及一种连接器镀膜方法及其制备工艺，该镀膜方法包括：设置遮盖层遮挡所制备的连接器的接触组件的非镀膜部位，根据连接器镀膜所需的镀膜材料选择靶材；获取连接器的镀膜部位的成型的深孔器件的内孔结构参数；根据内孔结构参数规划镀膜部位深孔器件...

本申请涉及一种小尺寸磁性材料工件的镀膜方法及真空镀膜单体机，所述方法包括：根据工艺需求选定溅射镀膜使用的靶材的材料类型与靶材数量，在真空镀膜单体机的不同运行模式下的实际运行参数，根据实际运行参数设置靶材磁场分布的物理模型，模拟真空镀膜不...

本申请涉及一种分布式导气装置及真空镀膜设备，分布式导气装置包括：分布式布局的多个腔体，每个腔体内设有导气管，导气管分别连接供气管路；腔体用于容纳被镀膜的工件；供气管路用于接入镀膜气体并传输至各个导气管；导气管用于将镀膜气体注入所述腔体，...

本申请涉及一种小尺寸工件镀膜装置、真空镀膜机及其镀膜方法，所述镀膜装置包括：卧式安装的转筒以及沿所述转筒轴向设置的靶材；其中，转筒内侧面上设置有突出部，靶材在转筒内侧壁位置处产生电场；在镀膜过程中，转筒在驱动装置驱动下进行转动，通过突出...

本申请涉及一种密封件镀膜设备及其镀膜方法，所述密封件镀膜设备包括：固定装置，清洁腔室和镀膜腔室；其中，清洁腔室设置有第一真空泵和等离子体离子源，镀膜腔室设置有第二真空泵和化学气相沉积系统；固定装置用于固定多个密封件，以及将密封件整体从清...

本申请涉及一种真空镀膜设备及其镀膜方法，所述真空镀膜设备，包括：真空腔室，该真空腔室内的镀膜区与后处理区之间设置有阻隔装置，阻隔装置用于阻隔后处理区的气体分子扩散至镀膜区，并反射至真空泵的抽气口位置；至少一个镀膜材料腔室结构，连接于真空...

本申请涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，所述镀膜材料存放装置包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；连接真空阀...