等离子体成膜有限公司专利技术

等离子体成膜有限公司共有6项专利

  • 本发明提供一种等离子体处理装置,其具备:等离子体处理室,收容被处理基材;输送装置,将所述被处理基材输送到所述等离子体处理室内;电感耦合型线状天线,用于产生等离子体;偏置电极,对等离子体电位进行调制;以及加热装置,加热所述被处理基材,所述...
  • 本发明提供一种等离子体处理装置,其包括在等离子体处理室内处于接地电位的被加工基材以及与该基材相对配置的电感耦合型天线单元,在二者之间具备调制等离子体电位的偏置电极。另外,本发明提供将多个所述处理室连接的串联方式的等离子体处理装置。
  • 本发明提供电感耦合型天线单元和等离子体处理装置。电感耦合型天线单元(200)保持气密地安装于设置在真空腔(11)的壁面(111)的开口部(112),电感耦合型天线单元(200)具有:盖体(21),保持气密地覆盖开口部(112);天线导体...
  • 本发明提供一种等离子体处理装置。所述等离子体处理装置包括对基材(X)进行等离子体处理的多个等离子体处理室(S2~S6)、将基材(X)以立起状态保持的托盘(Y)、将托盘(Y)连续输送到多个等离子体处理室(S2~S6)的升降机构(10),所...
  • 本发明为一种等离子体处理装置及其驱动方法,其抑制天线导体与盖体之间所产生的等离子体来防止真空室内的污染,并且使长尺寸天线单元实用化,包括收容被处理物的真空室、用于使所述真空室内产生等离子体的电感耦合型天线单元、以及朝所述电感耦合型天线单...
  • 为了实现制造的高效率化,并且即使在片状基材薄的情况下,也确保品质的等离子体处理装置,包括:等离子体处理室(X),对片状基材(Z)进行等离子体处理;高频天线(3),用以使等离子体处理室(X)内产生等离子体;以及送出机构(10),将片状基材...
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