大连理工大学专利技术

大连理工大学共有27746项专利

  • 本发明为一种薄层电镀镍工艺,采用瓦特型电镀镍方法,通过工艺参数的优化配置在一定的时间内获得很薄的镍镀层。首先对工件表面作磨削光整处理,使其表面粗糙度达到Ra0.5μm;然后采用除油、酸洗和超声波水洗,以保证彻底去除表面的杂物;之后采用瓦...
  • 一种光电化学复合或耦合制氢制氧装置及方法,属于绿色可再生能源技术领域。其特征是该装置包括上部的太阳能电池和下部的光电化学池;上部的太阳能电池装置包括电极基板、光阳极、电解液和对电极;该上部的太阳能电池为硅太阳能电池、染料敏化太阳能电池、...
  • 本发明涉及一种银及银合金的抗变色方法,流程包括除油,超声波水洗,抛光,活化,酸洗,化学钝化,热水洗,脱水干燥,每道工序间均用蒸馏水冲洗不少于20秒。其特征是银及其合金表面抗变色处理是在一定的化学钝化溶液中完成。银及其合金在钝化的同时,表...
  • 一种镁合金表面处理方法,包括脱脂工序、水洗工序、纯水洗工序、酸洗工序、水洗工序、纯水洗工序、氧化工序、水洗工序、纯水洗工序和烘干工序,其特征在于,脱脂工序采用溶剂脱脂,脱脂液组成为:NaOH5~20g/L,Na2CO35~20g/L,N...
  • 本发明大型轴承成品清洗传输设备属于精密轴承清洗设备领域,特别涉及一种自动控制的双排环形布局结构的轴承成品清洗传输设备。这种设备为卧式结构,采用模块化设计和六等分布局形式,整个清洗涂油设备为双排六工位环形流水作业的自动控制加工线;设备由上...
  • 本实用新型涉及一种┻型高硅铸铁辅助阳极。采用的技术方案是:阳极主体呈┻字型,阳极主体中间的上部设有密封环,两端设有空腔,中间部位预埋有螺栓,电缆引线与焊接在螺栓上的铜管相连接,电缆引线与铜管的连接处和铜管的四周设有密封层,铜管和连接铜管...
  • 光化学蚀刻制做金属照片技术,特点是在金属表面进行光化学蚀刻的去除加工,利用去除加工深度的变化反映实物的色调分布与层次,使具有一定光洁度的金属表面形成清晰的具有层次感的逼真图像。本发明所制出的金属画或金属照片层次丰富、细节清晰,是一种观赏...
  • 单室牺牲阳极-水热合成制备羟基磷灰石涂层的方法,其特征在于,首先将试样(4)进行打磨、除油、晾干,再将牺牲阳极(3)进行加工、打磨、除油、晾干后,进行初始涂层的制备和水热处理;牺牲阳极(3)参与反应的活性表面积与试样(4)沉积面积比为1...
  • 属于金属表面改性领域的一种利用物理气相沉积法制备改性换热管的加工炉。主要是由炉体[7]、真空系统、供气系统、供电系统和支座[9]所构成。特点是其内壁作为沉积过程靶源的炉体是由一个穿过可调激磁线圈[5]的圆筒状结构。可调激磁线圈[5]可沿...
  • 本发明公开了一种以介质阻挡放电方式产生等离子体的等离子体热丝化学气相沉积的方法与装置。本发明的特征是利用金属网强制提供的零等位面作为介质阻挡放电的零电位电极,热丝位于金属网的另一侧,从而实现了等离子体区与热丝区的分离。处于热丝下方的衬底...
  • 物理气相沉积领域中的用双向离子镀磁控溅射代替电镀设备的炉体,包括炉体[10]、炉门[26]、炉底[6]、真空室[1]、外蒸发源[2]、内蒸发源[5]、接在工件架上的脉冲偏压电源[7]、离子源接口[11]和抽真空接口[9]均安装在炉体上。...
  • 一种提高薄膜沉积质量的电弧离子镀设备属于金属材料表面改性技术领域。其技术解决方案是采用带有稳弧磁场和加长过滤磁场的双磁场结构的弧源,通过设置二级磁场的合理匹配保证等离子体的传输效率,而同时辅以磁过滤通道几何尺寸的优化来提高大颗粒的净化效...
  • 平面离子源增强沉积镀膜机属于等离子体表面物理气相沉积技术领域。平面离子源增强沉积镀膜机包括真空系统、加热系统、偏压系统、供气系统、工件传动机构以及平面离子源和磁控溅射、多弧等金属溅射蒸发源。平面离子源是由内阳极、狭缝阴极、磁场、阴极屏蔽...
  • 等离子体源增强沉积设备属于等离子体表面物理气相沉积技术领域。等离子体源增强沉积设备由真空系统、加热系统、偏压电源、供气系统、工件传动系统以及等离子体源与真空弧、磁控溅射组成,由等离子体源提供气体离化的等离子体,在偏压作用下,载能离子清洗...
  • 多离子束高能级增强射注技术是金属材料表面改性高技术,是在具有离子束注入源、溅射喷涂源、热电子以射极、稳定极及工件负高压电源等的装置中实现的。处理后工件表面改性层有较宽过液层,附着性好,沉积速率高;在工件表面能沉积单元或多元金属的单层或多...
  • 全元素离子束材料表面改性技术是在具有全元素离子注入系统、离子溅射沉积系统的真空设备中实现的,可以制作和改性硬质膜,合金膜、光学膜和电导膜等功能膜层。本技术可以完成全元素离子束增强沉积、气体离子注入、金属离子注入和复合离子注入。可广泛用于...
  • 本发明技术,采用单质硫在金属离子注入系统和桶式气体离子注入系统中实施硫离子注入和硫-金属离子复合注入材料表面改性技术。该项技术具有束斑大、无污染、工艺简单的特点。适用于宇航工程、机械工程中的高精度部件的材料表面改性。
  • 本发明涉及混合离子注入,特别是涉及一种多束动态混合注入技术。 本发明采用多束注入-沉积动态混合工艺,解决了高真空电弧金属等离子体喷射沉积束与离子束动态混合过程中的真空(1)↑[-3]~10↑[-7]Pa)匹配和多元素化合物形成过程...
  • 材料表面工程领域利用激光辅助自蔓延在金属表面形成陶瓷涂层的方法,特征:包括按化学计量配比取两种或两种以上能进行SHS反应的反应物粉料,加入0~40%的添加物,混合均匀后涂覆于金属表面;在激光能量密度为1.5×10↑[3]~5.0×10↑...
  • 材料表面改性领域中,用计算机控制的等离子体源离子渗氮工艺及设备,包括升温、保温、降温及离子注渗工艺过程和供电系统、供气系统、抽真空系统与主真空室所构成的设备,特征是采用自加热式加热工件,通过计算机自动控制正负脉冲对的重复频率、各自的占空...