本发明公开了一种硅片清洗装置，属于硅片冲洗设备技术领域，包括壳体，壳体包括箱板、底板、顶板和侧板槽，箱板底部连接有底板，箱板顶部固定连接有顶板，顶板顶部开设有顶槽，箱板侧边两面且有一面靠近反应装置开设有侧板槽，防尘装置，防尘装置包括侧挡...