本发明公开了一种蓝宝石光学晶片加工的清洗工艺，涉及光学晶片精密加工领域。本发明先针对蓝宝石光学晶片加工中后的最终清洗，提出了一种去除蓝宝石晶片表面磨料、有机脏污和杂质金属的方案；清洗工艺中包括本发明自制一种基于聚（丙烯酸‑共‑甲基丙烯酸...