一种自吸热可复形延冰/除冰微阵列结构的制备方法属于微纳结构功能表面制备技术领域。本发明在形状记忆合金上制备30

相位

一种基于视频监控的全天无陪护病房患者跌倒检测方法，涉及深度学习和智能监控技术领域，为了解决现有技术存在的患者跌倒检测误报率高的问题，该方法：视频图像预处理；标定病床边界框；检测人体关键点；提取人体跌倒特征；判断人体是否跌倒：将标准化后的...

面向随机大输入功率范围的多通道均衡航天光前置放大器，涉及无线高速激光通信技术领域，为解决现有航天平台舱与载荷舱间动态旋转条件下随机大输入功率范围下多通道信号均衡低噪放大难的问题，其包括：电控光衰减器、光学耦合器一、光电探测器一、控制器一...

本发明提供一种非圆截面薄壁零件的旋压成形设备，其设备由机床与控制台电路连接组成，机床包括床身、旋转主轴机构、进给机构、旋轮机构，旋转主轴机构置于床身左部，用于夹持并旋转待加工工件，进给机构置于床身右部，进给机构分为横向进给机构和纵向进给...

本实用新型一种海面目标pBRDF测量的模拟装置，属于偏振光散射特性测量分析和光电成像技术领域，包括地面旋转测量架、海面场景模拟装置、偏振光发射系统、接收系统以及信息处理系统，其中偏振光发射系统、接收系统放置在地面旋转测量架上；接收系统与...

一种解决光学遮挡的手术导航装置及导航方法属于医疗器械技术领域，目的在于解决现有技术存在的跟踪光线受遮挡，导航系统丢失内窥镜和手术工具的空间位置信息，无法进行手术操作的问题。本发明的一种解决光学遮挡的手术导航装置包括：光学跟踪设备；组合装...

基于智能手机的水果无损测糖系统，涉及水果无损测糖技术领域，解决现有技术存测糖精度较低，外界干扰影响较大的问题，PMMA光纤与视场光阑和线阵CCD扫描镜头同轴，并将该轴作为光路结构的主光轴；凸透镜与卤素灯同轴，并等距分布在主光轴两侧；卤素...

本实用新型公开了一种垃圾桶，其包括底座、转动台、桶体和驱动装置，所述转动台可转动的安装在底座上，所述桶体的数量为多个，多个所述桶体均设置在转动台上且围绕转动台的旋转轴线均匀布设，所述驱动装置设置在底座内且用于驱动转动台转动。本实用新型的...

本发明涉及一种考核疲劳振动中结构错位失效及寿命预测的方法，所述方法包括S100、建立待考核产品的三维几何结构模型；S200、以三维几何结构模型为基础，建立待考核产品的有限元结构模型；S300、基于有限元结构模型在求解器中进行自由模态计算...

本发明公开了点云几何编解码技术领域的一种基于Transformer的点云几何编解码方法，将3379个训练点云放在名为

本发明涉及一种含有硫醚基团的N

钢球直径高精度测量与分组系统属于钢球尺寸测量技术领域，目的在于提出解决现有技术存在的测量范围小、机器容易损坏、造价高以及普适性差的问题。本发明包括钢球上料系统、测量系统、下料及分组系统以及控制系统；控制钢球上料系统步进向测量系统进行单个...

本发明公开了一种基于边缘计算的多用户多任务卸载系统，包括：若干组用户端，所述用户端用于建立并发送待处理卸载任务；覆盖所述若干组用户端的边缘服务器集合，所述边缘服务器集合包括若干组边缘服务器。通过采用计算模块对待处理卸载任务的消耗进行建模...

本发明公开一种基于随机调制实现测量样本去相关的大气光信道密钥提取方法。本方法在一个激光收发端机中引入随机调制，利用电光调制器把随机信号调制到激光器输出光信号上，使得激光信号在大气湍流光信号衰落自相关时间内发生随机变化。本方法可以使得加入...

本实用新型涉及一种基于云端服务器的激光辅助靠泊系统，包括：气象监测装置、激光测距装置、显示设备、中央控制设备和云端服务器，所述气象监测装置、激光测距装置、显示设备均与所述中央控制设备连接，所述中央控制设备与所述云端服务器无线连接。本实用...

一种多矢量变面积式电容角位移编码器及其测量方法，属于位移测量技术领域，为了解决传统角位移传感器因其复杂结构和原理所导致的难以实现小型化的问题，该装置由信号发生单元、电容式角位移编码器敏感单元和信号处理单元组成；由信号发生单元产生四路相位...

本发明提供了一种用于公厕环境气体检测净化的控制器，可以对公厕内空气环境进行直接检测，并可以针对检测出的空气质量进行评估，对系统控制形成响应的决策方法；设有隔离控制电路，实现高低压系统相互隔离，增强了系统的鲁棒特性，使系统在潮湿环境中拥有...

本发明公开了一种基于边缘计算的视频缓存整理方法，包括以下步骤：S1、将视频信号输入由同步消隐信号分离模块引入到视频缓存整理系统内，由同步消隐信号分离模块将有效帧数据输入和有效输入视频数据的时钟分别传输至视频数据缓存器中；S2、利用所述视...

本发明提供了一种电子束光刻套刻标记的保护方法，属于微纳米加工技术领域，包括衬底层、材料层、介质保护层；所述材料层位于衬底上，套刻标记为金属标记，标记位于材料层上；所述介质保护层覆盖于金属标记正上方。对标记保护的过程为：清洗晶圆、烘干；在...