滨州市广友化工有限公司专利技术

滨州市广友化工有限公司共有19项专利

  • 本实用新型公开了一种低能耗石油助剂生产反应釜,包括反应釜本体,反应釜本体内壁的两侧均开设有滑槽,两个滑槽的内部均滑动设置有滑块,两个滑块之间固定设置有环形水管,环形水管的底端固定连通有若干个均匀分布的喷头,环形水管的中部固定连通有导管,...
  • 本实用新型公开了一种同步搅拌的石油助剂生产反应釜,包括釜体,其釜体的顶部设有釜盖,釜盖的顶部固定安装有电机,电机的输出端穿过釜盖固定连接有转轴,转轴的两侧均开设有多个均匀分布的定位孔,转轴上卡合连接有多个均匀分布的安装环,安装环的两侧均...
  • 本实用新型公开了一种内壁易清理的石油助剂生产反应釜,包括底座,底座的中部固定安装有釜体,底座背面的顶部固定连接有支架,支架的顶部连接有顶板,顶板的底部安装有电动伸缩杆,电动伸缩杆的输出端固定连接有釜盖,釜盖的顶部连接有机盒,机盒内壁的顶...
  • 本实用新型公开了一种可拆卸式软水装置,包括可拆底座、软水树脂罐和盐箱,可拆底座顶端的两侧均开设有安装卡槽,两个安装卡槽的内部均卡合连接有卡接底架,两个卡接底架的顶端分别与软水树脂罐的底端和盐箱的底端固定连接,可拆底座的内部开设有两个复位...
  • 本发明涉及油气田除硫剂技术领域,具体涉及一种油气田有机复合高效除硫剂及其制备方法,所述除硫剂,以质量分数计,包括以下组分:三嗪衍生物40~50%、甲基二乙醇胺10~20%、辅溶剂7~10%、三甘醇5~8%和水为余量;所述制备方法为将甲基...
  • 本发明属于缓释阻垢技术领域,具体涉及一种射流泵用缓释阻垢剂及其制备方法。缓释阻垢剂包括如下重量份数的组分:第一阻垢剂2
  • 本发明提供了一种常压页岩气开发用泡排消泡剂及其制备方法,该消泡剂包括硅油Ⅰ、硅油Ⅱ、硅油Ⅲ、乳化剂、正丙醇、抗坏血酸、水;其中,硅油Ⅰ的粘度为5
  • 本发明涉及一种常压页岩气田用缓释杀菌剂,属于油气开发的技术领域。一种常压页岩气田用缓蚀杀菌剂,由组分A和组分B组成,所述组分A包括重量份的以下组分:缓蚀剂10~15份,磷酸二氢钠6~9份,表面活性剂1~2份,水Ⅰ74~83份;所述组分B...
  • 本新型属于油井除垢装置,具体涉及一种控释型除垢器。该控释型除垢器,包括上下开口的管体和压力感应装置,该管体的侧壁上贯穿的通孔,且管体的侧壁上连通有进液管;压力感应装置包括液压缸,液压缸的活塞杆前端固定连接有压力传感器,压力传感器前端连接...
  • 本发明涉及缓蚀剂技术领域,具体涉及一种页岩气开发用气井缓蚀剂及制备方法,所述气井缓蚀剂原料包括双季铵盐类缓蚀剂、N
  • 本发明涉及页岩气开发技术领域,具体涉及一种页岩气水平井钻完井管柱清洗剂及制备方法,所述清洗剂包括溶硫剂、分散剂、钝化抗磨双效剂、表面活性剂和水,所述溶硫剂为硫化钠,所述钝化抗磨双效剂含有硼酸镁、N,N
  • 本发明涉及一种酸化用抗酸渣剂及其制备方法,属于石油开采的技术领域。所述抗酸渣剂包括重量份的以下组分:聚乙二醇20~32份,络合剂5~13份,还原剂0.5~2份,30%盐酸3~6份,水50~60份。本发明的抗酸渣剂应用于胶质含量高的原油中...
  • 本发明涉及页岩气田开发技术领域,具体涉及一种页岩气田用缓蚀杀菌剂,以质量百分数计,包括以下组分:喹啉型双季铵盐10
  • 本新型属于防蜡管,具体涉及一种控释型防蜡管。该防蜡管包括上端开口的筒体,该筒体的上端可拆卸式连接有上盖板,筒体的内部有与筒体整体同垂直中心轴线的第一内筒和第二内筒,第二内筒与筒体外壳之间形成防蜡块放置腔体,该腔体内自下而上有压力传感器、...
  • 本发明涉及页岩气开发化学用剂技术领域,具体涉及一种页岩气开发用泡排起泡剂,以质量百分数计,包括以下组分:甜菜碱型表面活性剂35%
  • 本发明涉及缓蚀剂技术领域,具体涉及一种环保型高温酸化缓蚀剂及其制备方法。所述环保型高温酸化缓蚀剂,以质量百分比计,包括以下原料:双曼尼希碱20%~30%、表面活性剂5%‑10%、植物提取物3%‑5%、炔醇3%‑5%、碘化钾0.1%‑0....
  • 本发明涉及酸化酸压技术领域,具体涉及一种高温酸化转向剂及其制备方法。所述酸化转向剂以质量百分比计,包括以下原料:芥酸酰胺丙基甜菜碱20%~40%、离子液体表面活性剂10%~30%、有机添加剂3%~5%,其余为去离子水。本发明提供的高温酸...
  • 本发明涉及本发明涉及化学助剂技术领域,具体涉及一种有机硅油消泡剂及其制备方法,所述有机硅油消泡剂包括硅油、白炭黑、乳化剂和羟甲基纤维素钠水溶液,所述硅油为季铵盐修饰的聚醚改性硅油;所述方法为:称取硅油、白炭黑、乳化剂和羟基纤维素钠水溶液...
  • 本发明涉及碳酸盐岩储层开采技术领域,具体涉及一种适用于碳酸盐岩储层的清洁自转向酸液体系及其制备方法。以质量百分数计,包括以下组分:羟基磺酸盐型两性表面活性剂1~5%,离子液体表面活性剂3~10%,磺酸类衍生物1~5%,纳米金属氧化物1~...
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